国际商业机器公司久田隆史获国家专利权
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龙图腾网获悉国际商业机器公司申请的专利凸起结构的形成获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN114586145B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-12-02发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202080071173.6，技术领域涉及：H01L23/00；该发明授权凸起结构的形成是由久田隆史;青木丰广;中村英司设计研发完成，并于2020-09-22向国家知识产权局提交的专利申请。
本凸起结构的形成在说明书摘要公布了：公开了一种凸起结构的制造技术。制备包括形成在其表面上的衬垫的组的衬底，衬垫包括第一导电材料。在每个衬垫上涂覆金属粘合层。通过使用模制层烧结导电颗粒来在每个衬垫上形成凸起基底，导电颗粒包括与所述第一导电材料不同的第二导电材料。
本发明授权凸起结构的形成在权利要求书中公布了：1.一种制造凸起结构的方法，所述方法包括： 制备包括形成在其表面上的衬垫的组的衬底，所述衬垫包括第一导电材料； 在所述衬垫中的每一个上涂覆金属粘合层，其中所述金属粘合层被直接形成在所述衬垫上；以及 通过使用模制层烧结导电颗粒来在所述衬垫中的每一个上形成具有凸起基底的凸起，所述凸起基底直接形成在所述金属粘合层上，所述导电颗粒包括与所述第一导电材料不同的第二导电材料， 其中，所述金属粘合层覆盖所述衬垫的整个顶表面，并且形成为进一步覆盖所述凸起基底的侧表面的离子迁移短路保护的侧壁阻挡物。
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1、本报告根据公开、合法渠道获得相关数据和信息，力求客观、公正，但并不保证数据的最终完整性和准确性。
2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
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