FEI 公司钟祯新获国家专利权
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龙图腾网获悉FEI 公司申请的专利用于对三维特征进行成像的方法和系统获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN114689630B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-12-02发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202011601367.0，技术领域涉及：G01N23/2202；该发明授权用于对三维特征进行成像的方法和系统是由钟祯新;高海峰;林映红;张瑞心;吴冰星设计研发完成，并于2020-12-30向国家知识产权局提交的专利申请。
本用于对三维特征进行成像的方法和系统在说明书摘要公布了：用于对三维特征进行成像的方法和系统。用于基于在不同样品深度处的多个基准来铣削样品和对样品进行成像的方法和系统包括：在第一样品深度处的第一样品表面上形成第一基准；铣削所述样品表面的至少一部分以在第二样品深度处暴露第二样品表面；在所述第二样品表面上形成第二基准；以及铣削所述第二样品表面的至少一部分以在第三样品深度处暴露包括所关注区域ROI的第三样品表面。可基于所述ROI和所述第二基准的图像以及所述第一基准与所述第二基准之间的相对位置来计算在所述第三样品深度处的所述ROI相对于所述第一基准的位置。
本发明授权用于对三维特征进行成像的方法和系统在权利要求书中公布了：1.一种用于对样品进行成像的方法，其包括： 将第一基准定位在第一样品深度处的第一样品表面上； 去除所述第一样品表面的至少一部分以暴露第二样品表面； 在所述第二样品表面上形成第二基准； 去除所述第二样品表面的至少一部分以在第三样品深度处暴露包括所关注区域ROI的第三样品表面； 获取包括所述第二基准和在所述第三样品深度处的所述ROI的第一样品图像；以及 基于所述第一基准相对于所述第二基准的第一位置、和在所述第一样品图像中在所述第三样品深度处的所述ROI相对于所述第二基准的第二位置，来确定在所述第三样品深度处的所述ROI相对于所述第一基准的位置。
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1、本报告根据公开、合法渠道获得相关数据和信息，力求客观、公正，但并不保证数据的最终完整性和准确性。
2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
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