西默有限公司P·C·梅尔彻获国家专利权
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龙图腾网获悉西默有限公司申请的专利具有独立电压和定时控制并降低功耗的双脉冲功率系统获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN114930656B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-12-02发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202080091291.3，技术领域涉及：H01S3/104；该发明授权具有独立电压和定时控制并降低功耗的双脉冲功率系统是由P·C·梅尔彻;T·P·达菲;W·D·吉莱斯皮设计研发完成，并于2020-12-11向国家知识产权局提交的专利申请。
本具有独立电压和定时控制并降低功耗的双脉冲功率系统在说明书摘要公布了：提供了用于控制包括两个激光放电腔室的激光源的系统、设备、方法和计算机程序产品。示例激光控制系统可以包括第一脉冲动力系，该第一脉冲动力系包括被配置为生成第一谐振充电供应RCS输出电压的第一独立电路。第一RCS输出电压可以被配置为驱动第一激光放电腔室。示例激光控制系统还可以包括第二脉冲动力系，该第二脉冲动力系包括被配置为生成独立于第一RCS输出电压的第二RCS输出电压的第二独立电路。第二RCS输出电压可以被配置为驱动独立于第一激光放电腔室的第二激光放电腔室。
本发明授权具有独立电压和定时控制并降低功耗的双脉冲功率系统在权利要求书中公布了：1.一种激光控制系统，包括： 第一脉冲动力系，包括第一独立电路，所述第一独立电路被配置为生成第一谐振充电供应RCS输出电压，其中所述第一RCS输出电压被配置为驱动第一激光放电腔室； 第二脉冲动力系，包括第二独立电路，所述第二独立电路被配置为生成第二RCS输出电压，所述第二RCS输出电压独立于所述第一RCS输出电压，其中所述第二RCS输出电压被配置为驱动第二激光放电腔室，所述第二激光放电腔室独立于所述第一激光放电腔室； 公共RCS，包括所述第一独立电路、所述第二独立电路、以及公共储存电容器，所述公共储存电容器被配置为电耦合到所述第一独立电路和所述第二独立电路；以及 公共高电压电源HVPS，被配置为将高电压信号传输到所述公共储存电容器，其中所述激光控制系统被配置为： 控制所述第一脉冲动力系的第一定时；以及 基于相对于所述第一脉冲动力系的所述第一定时的延迟，控制所述第二脉冲动力系的第二定时。
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