深圳市华星光电半导体显示技术有限公司张亮获国家专利权
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龙图腾网获悉深圳市华星光电半导体显示技术有限公司申请的专利显示面板的制备方法以及显示装置获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN115207262B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-12-02发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202210923738.X，技术领域涉及：H10K71/00；该发明授权显示面板的制备方法以及显示装置是由张亮设计研发完成，并于2022-08-02向国家知识产权局提交的专利申请。
本显示面板的制备方法以及显示装置在说明书摘要公布了：本发明提供了一种显示面板的制备方法以及显示装置，显示面板的制备方法包括：提供量子点荧光膜和发光基板，量子点荧光膜包括多个阵列排布的量子点涂层，发光基板包括多个阵列排布的发光单元，在量子点荧光膜和发光基板的其中之一上形成第一过孔，在量子点荧光膜和发光基板的其中另一上形成对应于第一过孔的第二过孔或光反射点，通过第一过孔和第二过孔或通过第一过孔和光反射点，将量子点荧光膜与发光基板进行对位，以使多个量子点涂层与多个发光单元一一对应，本发明通过利用在量子点荧光膜和发光基板上分别增设的相对应的第一过孔和第二过孔或光反射点，以保证多个量子点涂层与多个发光单元对位的精度。
本发明授权显示面板的制备方法以及显示装置在权利要求书中公布了：1.一种显示面板的制备方法，其特征在于，所述制备方法至少包括： 提供量子点荧光膜和发光基板，其中，所述量子点荧光膜包括多个阵列排布的量子点涂层，所述发光基板包括多个阵列排布的发光单元； 在所述量子点荧光膜和所述发光基板的其中之一上形成第一过孔，所述第一过孔贯穿所述量子点荧光膜或所述发光基板； 在所述量子点荧光膜和所述发光基板的其中另一上形成对应于所述第一过孔的第二过孔或光反射点，所述第二过孔贯穿所述量子点荧光膜或所述发光基板； 在形成有所述第一过孔的所述量子点荧光膜或所述发光基板的下方设置激光平台； 在通过所述第一过孔和所述第二过孔或通过所述第一过孔和所述光反射点，将所述量子点荧光膜与所述发光基板进行对位的过程中，计算所述激光平台接收到的光通量； 以及， 当所述光通量达到最大值时，确定多个所述量子点涂层与多个所述发光单元已一一对应。
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