TCL科技集团股份有限公司张冬莲获国家专利权
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龙图腾网获悉TCL科技集团股份有限公司申请的专利发光器件的制备方法及发光器件获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN115249779B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-12-02发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202110449594.4，技术领域涉及：H10K71/00；该发明授权发光器件的制备方法及发光器件是由张冬莲设计研发完成，并于2021-04-25向国家知识产权局提交的专利申请。
本发光器件的制备方法及发光器件在说明书摘要公布了：本申请实施例公开了一种发光器件的制备方法及发光器件，所述发光器件的制备方法包括以下步骤：提供一衬底；在所述衬底上形成第一膜层，所述第一膜层由第一溶液形成，所述第一溶液包括第一溶剂；在所述第一膜层上形成一阻隔层，所述阻隔层由阻隔溶剂形成，所述阻隔溶剂与所述第一溶剂正交；在所述阻隔层上形成第二膜层，所述第二膜层由第二溶液形成，所述第二溶液包括第二溶剂，所述第二溶剂与所述阻隔溶剂正交；其中，在形成所述第二膜层之前，所述阻隔溶剂至少部分覆盖所述第一膜层。本申请提高了发光器件的性能。
本发明授权发光器件的制备方法及发光器件在权利要求书中公布了：1.一种发光器件的制备方法，其特征在于，包括以下步骤： 提供一衬底； 在所述衬底上形成第一膜层，所述第一膜层由第一溶液形成，所述第一溶液包括第一溶剂； 在所述第一膜层上形成一阻隔层，所述阻隔层由阻隔溶剂形成，所述阻隔溶剂与所述第一溶剂正交；以及 在所述阻隔层上形成第二膜层，所述第二膜层由第二溶液形成，所述第二溶液包括第二溶剂，所述第二溶剂与所述阻隔溶剂正交；其中，在形成所述第二膜层之前，所述阻隔溶剂至少部分覆盖所述第一膜层；对所述第二膜层进行干燥处理，同时去除所述第二溶剂和所述阻隔溶剂；或者，对所述第二膜层进行干燥处理，依次去除所述第二溶剂和所述阻隔溶剂。
如需购买、转让、实施、许可或投资类似专利技术，可联系本专利的申请人或专利权人TCL科技集团股份有限公司，其通讯地址为：516006 广东省惠州市仲恺高新区惠风三路17号TCL科技大厦；或者联系龙图腾网官方客服，联系龙图腾网可拨打电话0551-65771310或微信搜索“龙图腾网”。
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