宁波舜宇奥来技术有限公司李静获国家专利权
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龙图腾网获悉宁波舜宇奥来技术有限公司申请的专利晶圆激光改质结构、方法及系统获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN115255682B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-12-02发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202210983213.5，技术领域涉及：B23K26/53；该发明授权晶圆激光改质结构、方法及系统是由李静;刘旭冉;汪杰;陈远设计研发完成，并于2022-08-16向国家知识产权局提交的专利申请。
本晶圆激光改质结构、方法及系统在说明书摘要公布了：本发明的一种晶圆激光改质结构、方法及系统，在晶圆样品内部进行多层改质，形成多层晶圆改质层与多层第一留白层的重复结构，控制晶圆改质层激光热影响域范围，降低了临近晶圆改质层之间的热影响区域的互相叠加，使晶圆改质层产生的热裂纹都被局域限制在第一留白层内，减少了隐形改质在材料内部的隐形损伤区域及裂纹受附近热源影响造成不受控拓展可能性，避免了热裂纹纵向‑横向拓展造成弯曲强度降低、崩边等问题，即保证了隐切的改质属性，又能保证外观、理化性质，使样品强度显著提升，从而提升样品外观质量及加工精度。
本发明授权晶圆激光改质结构、方法及系统在权利要求书中公布了：1.一种晶圆激光改质结构，其特征在于，包括晶圆样品10，所述晶圆样品10的上表面覆盖有成像胶层20，所述成像胶层20为具有光学成像作用的载体，所述晶圆激光改质结构还包括： 多个晶圆改质层11沿所述晶圆样品10竖直方向平行设置，相邻两个所述晶圆改质层11之间设置有第一留白层12； 成像胶改质层21，与所述晶圆改质层11平行设置于所述成像胶层20内； 所述晶圆改质层11的厚度大于所述第一留白层12的厚度； 还包括： 两层第三留白层22，分别设置于所述成像胶改质层21的上、下两侧； 第二留白层13，所述第二留白层13设置于所述晶圆改质层11与所述成像胶层20之间； 第四留白层14，设置于所述晶圆样品10的下表面与所述晶圆改质层11之间。
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