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龙图腾网获悉上海微电子装备(集团)股份有限公司申请的专利大视场成像物镜获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN115542521B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-12-02发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202110736674.8，技术领域涉及：G02B13/22；该发明授权大视场成像物镜是由李润芝;于大维;李运锋设计研发完成，并于2021-06-30向国家知识产权局提交的专利申请。

本大视场成像物镜在说明书摘要公布了：本发明提供一种大视场成像物镜，采用沿光束入射方向依次由光焦度为正、正、负、正的透镜组组成的双远心光学结构，物镜总长≤1100mm，适用于450‑650nm的宽光谱，放大倍率为‑20x，物方的数值孔径NA≤0.45，物方视场的直径为4.1mm。本发明提供的成像物镜具有大孔径、大视场，提升物镜的分辨率，增加产率，且成像物镜具有大数值孔径角及较小的景深范围，可用于晶圆表面不同图案的检测，对于凹坑边缘成像更锐利，满足新工艺下晶圆缺陷检测需求。

本发明授权大视场成像物镜在权利要求书中公布了：1.一种大视场成像物镜，其特征在于，包括：沿光束入射方向依次设置有第一透镜组G1、第二透镜组G2、第三透镜组G3及第四透镜组G4，其中，所述第一透镜组G1用于会聚大角度光束；所述第二透镜组G2用于对成像物镜的像差进行校正；所述第三透镜组G3用于对所述第一透镜组G1和所述第二透镜组G2所成的实像放大成虚像，实现高倍率，同时用于校正场曲；所述第四透镜组G4用于实现对由所述第三透镜组G3生成的虚像成实像； 所述第一透镜组G1、所述第二透镜组G2及所述第四透镜组G4具有正光焦度，所述第三透镜组G3具有负光焦度； 所述第一透镜组G1、所述第二透镜组G2、所述第三透镜组G3及所述第四透镜组G4满足以下关系式： 0.1|f1f2|0.5 3|f2f3|8 0.1|f3f4|0.5 0.1|f1f4|1 其中，f1为所述第一透镜组G1的焦距，f2为所述第二透镜组G2的焦距，f3为所述第三透镜组G3的焦距，f4为所述第四透镜组G4的焦距； 所述第一透镜组G1由2片透镜构成，沿光束入射方向依次为正透镜L1、正透镜L2； 所述第二透镜组G2由9片透镜构成，沿光束入射方向依次为正透镜L3、透镜L4与透镜L5组成的具有负光焦度的双胶合透镜组G2-1、正透镜L6、负透镜L7、透镜L8与透镜L9组成的具有负光焦度的双胶合透镜组G2-2及透镜L10与透镜L11组成的具有正光焦度的双胶合透镜组G2-3； 所述第三透镜组G3由3片透镜构成，沿光束入射方向依次为由透镜L12与透镜L13组成的具有正光焦度的双胶合透镜组G3-1及负透镜L14； 所述第四透镜组G4由3片透镜构成，沿光束入射方向依次为负透镜L15、正透镜L16及正透镜L17。

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