买专利卖专利找龙图腾，真高效！ 查专利查商标用IPTOP,全免费！专利年费监控用IP管家,真方便！

龙图腾网获悉厦门大学申请的专利基于微流控技术粗糙表面量子点图案沉积方法及应用获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN115663094B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-12-02发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202211258999.0，技术领域涉及：H10H29/851；该发明授权基于微流控技术粗糙表面量子点图案沉积方法及应用是由吴挺竹;郭文安;王树立;刘时彪;孔学敏;黎赛军;赵志;王震;林岳;吕毅军;陈忠设计研发完成，并于2022-10-14向国家知识产权局提交的专利申请。

本基于微流控技术粗糙表面量子点图案沉积方法及应用在说明书摘要公布了：本发明公开了一种基于微流控技术粗糙表面量子点图案沉积方法，是对色转换层基板的表面进行研磨抛光处理后利用光刻胶掩膜在预沉积量子点溶液的区域进行粗糙化处理，以增加量子点预沉积区域的粗糙度，然后通过微流控技术沉积量子点溶液于图形化粗糙区域并吹扫多余量子点溶液，再形成色转换层图案之间的遮光层以及表面沉积保护层。本发明可减少激发光在折射率不同的两种材料表面发生全反射，增强色转换层中量子点溶液对激发光源的吸收，有利于提高激发光源的光提取效率，降低能耗；并可进一步提高量子点光转化效率，提高光的品质，使得全彩化显示光亮度更好，适合于更大规模的全彩化显示应用。

本发明授权基于微流控技术粗糙表面量子点图案沉积方法及应用在权利要求书中公布了：1.一种基于微流控技术粗糙表面量子点图案沉积方法，其特征在于，包括以下步骤： 1对基板的表面进行研磨抛光处理； 2于表面涂覆光刻胶，通过曝光显影形成图案化区域以及图案化区域之外的遮蔽区域，对位于图形化区域内的基板表面进行粗糙化处理，形成图形化粗糙区域，然后去除光刻胶； 3制备微流控盖板，所述微流控盖板包括若干通槽，所述通槽具有进液口和出液口，将微流控盖板与基板表面压合，压合后通槽与多个图形化粗糙区域配合导通形成微通道； 4将量子点溶液注入微通道直至量子点溶液充满所述微通道的图形化粗糙区域，将多余量子点溶液吹扫出微通道； 5剥离微流控盖板，经紫外光固化得到嵌设于基板中的色转换层图案； 6于基板的色转换层图案之间的表面形成遮光层； 7于步骤6形成的结构表面沉积保护层； 步骤2中，所述图案化区域为显开窗口，于显开窗口内的所述表面上无规则沉积金纳米颗粒，然后采用反应离子蚀刻技术进行蚀刻后形成粗糙的表面，再依次去除所述光刻胶和金纳米颗粒；所述无规则沉积金纳米颗粒，是将光刻胶掩膜的所述基板放入金纳米颗粒溶液中沉积5~15分钟，所述金纳米颗粒的尺寸分布无规律，尺寸范围为20-100nm；所述粗糙的表面的起伏高度差不超过3微米；或 步骤2中，所述图案化区域为局部显开窗口，保留在若干分立的光刻胶柱；所述基板表面通过电感耦合等离子体刻蚀、反应离子刻蚀或湿法腐蚀后保留若干分立柱状凸起以形成粗糙的表面：所述粗糙的表面与所述基板未处理表面的高度差不超过3μm，所述柱状凸起的尺寸为3-6μm，间距为3-6μm。

如需购买、转让、实施、许可或投资类似专利技术，可联系本专利的申请人或专利权人厦门大学，其通讯地址为：361000 福建省厦门市思明南路422号；或者联系龙图腾网官方客服，联系龙图腾网可拨打电话0551-65771310或微信搜索“龙图腾网”。

以上内容由龙图腾AI智能生成。