山东有研半导体材料有限公司;有研半导体硅材料股份公司郑宇获国家专利权
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龙图腾网获悉山东有研半导体材料有限公司;有研半导体硅材料股份公司申请的专利一种硅片背表面喷砂装置及工艺获国家发明授权专利权,本发明授权专利权由国家知识产权局授予,授权公告号为:CN115922577B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-12-02发布的发明授权授权公告中获悉:该发明授权的专利申请号/专利号为:202211408641.1,技术领域涉及:B24C3/12;该发明授权一种硅片背表面喷砂装置及工艺是由郑宇;王新;刘义;韩萍;何丙才;李亚光;纪新鹏;姜伟;张亮;靳慧洁设计研发完成,并于2022-11-10向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种硅片背表面喷砂装置及工艺在说明书摘要公布了:本发明公开了一种硅片背表面喷砂装置及工艺。该喷砂装置包括盖板式喷枪上支架、设置在该喷枪上支架下方的壳体以及组装在该壳体中的多个陶瓷载具、内齿圈、外齿圈;内齿圈为柱状,其外周面具有内传动齿;外齿圈为圆环形,其外周面光滑,内周面具有外传动齿;多个陶瓷载具均匀分布在内齿圈与外齿圈之间,各陶瓷载具的外周分别与内齿圈外周面上的内传动齿和外齿圈内周面上的外传动齿啮合,内传动齿和外传动齿带动各陶瓷载具运转。在喷砂时,将硅片放置于陶瓷载具的硅片承载孔中,设定内齿圈的转向为正,转速为30‑65rpm;外齿圈的转向为负,转速为25‑60rpm;喷砂加工时间为30s‑120s;调整内内齿圈的转速、转向,使硅片在喷砂作业范围内的运行轨迹为行星运动。
本发明授权一种硅片背表面喷砂装置及工艺在权利要求书中公布了:1.一种使用喷砂装置进行硅片背表面喷砂的工艺,其特征在于, 该喷砂装置包括盖板式喷枪上支架、设置在该喷枪上支架下方的壳体以及组装在该壳体中的多个陶瓷载具、内齿圈、外齿圈;内齿圈为柱状,其外周面具有内传动齿;外齿圈为圆环形,其外周面光滑,内周面具有外传动齿;多个陶瓷载具均匀分布在内齿圈与外齿圈之间,各陶瓷载具的外周分别与内齿圈外周面上的内传动齿和外齿圈内周面上的外传动齿啮合,内传动齿和外传动齿带动各陶瓷载具运转; 多个喷头固定在盖板式喷枪上支架上面,各喷头同时连接供液管和高压空气管,自喷嘴朝向陶瓷载具上表面同时喷出浆液和高压空气,供液管连接料浆桶; 将硅片放置于陶瓷载具的硅片承载孔中,设定内齿圈的转向为正,转速为30-65rpm;外齿圈的转向为负,转速为25-60rpm;通过调整内、外齿圈的转速、转向,硅片在喷砂作业范围内的运行轨迹为行星运动; 加工6英寸硅片时,高压空气管的压力为0.1-0.3KPa,内齿圈的转速为30-40rpm;外齿圈的转速为25-35rpm,喷砂时间为40-60s;加工8英寸硅片时,高压空气管的压力为0.15-0.35KPa,内齿圈的转速为35-45rpm,外齿圈的转速为30-40rpm,喷砂时间为45-65s;加工12英寸硅片时,高压空气管的压力为0.2-0.4KPa,内齿圈的转速为40-50rpm,外齿圈的转速为35-45rpm,喷砂时间为50-70s。
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