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龙图腾网获悉嘉兴驭光光电科技有限公司申请的专利衍射光学元件及其设计方法和系统、光投射装置、设备、存储介质获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN116609940B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-12-02发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202210119144.3，技术领域涉及：G02B27/00；该发明授权衍射光学元件及其设计方法和系统、光投射装置、设备、存储介质是由窦晨浩;宋昱铭;田克汉设计研发完成，并于2022-02-08向国家知识产权局提交的专利申请。

本衍射光学元件及其设计方法和系统、光投射装置、设备、存储介质在说明书摘要公布了：本申请提供一种衍射光学元件及其设计方法和系统、光投射装置、设备、存储介质，该设计方法包括：获取自所述衍射光学元件出射后的出射光在输出面上的目标光场，其中，所述输出面和所述衍射光学元件间隔预定距离；根据所述目标光场，利用标量衍射理论设计获取所述衍射光学元件的第一目标相位分布；基于矢量衍射理论对所述第一目标相位分布进行优化，以获得第二目标相位分布，其中，所述第二目标相位分布用于表征所述衍射光学元件上的多个第一微结构的分布。通过本申请的设计方法可以使得DOE的输出光场均匀性。

本发明授权衍射光学元件及其设计方法和系统、光投射装置、设备、存储介质在权利要求书中公布了：1.一种衍射光学元件的设计方法，其特征在于，所述设计方法包括： 获取自所述衍射光学元件出射后的出射光在输出面上的目标光场，其中，所述输出面和所述衍射光学元件间隔预定距离； 根据所述目标光场，利用标量衍射理论设计获取所述衍射光学元件的第一目标相位分布； 基于矢量衍射理论对所述第一目标相位分布进行优化，以获得第二目标相位分布，其中，所述第二目标相位分布用于表征所述衍射光学元件上的多个第一微结构的分布，基于矢量衍射理论对所述第一目标相位分布进行优化，以获得第二目标相位分布，具体地包括以下步骤： 步骤S21：获取第一相位分布，并对所述第一相位分布进行调整，以获得调整相位分布，其中，第一次迭代时的所述第一相位分布为所述第一目标相位分布； 步骤S22：利用所述矢量衍射理论对输入光经过具有所述调整相位分布的衍射光学元件后在输出面的输出光场进行仿真，以获得第一仿真光场； 步骤S23：判断所述第一仿真光场是否满足第一光场评价条件，若满足所述第一光场评价条件，则表明所述调整相位分布优于所述第一相位分布，若不满足所述第一光场评价条件，则表明所述调整相位分布差于所述第一相位分布，则回到所述步骤S21； 步骤S24：重复以上步骤S21至步骤S23直到满足第二迭代循环结束条件，并输出最后一次满足所述第一光场评价条件的第一仿真光场所对应的调整相位分布作为所述第二目标相位分布。

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