上海应用技术大学梁丹丹获国家专利权
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龙图腾网获悉上海应用技术大学申请的专利一种TiZrAlSiN复合梯度薄膜及其制备方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN117070886B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-12-02发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202311114821.3，技术领域涉及：C23C14/02；该发明授权一种TiZrAlSiN复合梯度薄膜及其制备方法是由梁丹丹;张而耕;付巧慧;陈强;周琼;黄彪设计研发完成，并于2023-08-31向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种TiZrAlSiN复合梯度薄膜及其制备方法在说明书摘要公布了：本发明公开了一种TiZrAlSiN复合梯度薄膜及其制备方法，该TiZrAlSiN复合梯度薄膜包括：依次沉积于基体上的ZrZrN打底层、TiAlZrN过渡层、TiZrAlSiN表层。的TiZrAlSiN复合梯度薄膜中ZrZrN打底层Zr层与ZrN层之间形成共格效应增加了后续涂层与基体间的粘附性。与现有四元的氮化物薄膜相比，本发明制备的TiZrAlSiN复合梯度薄膜结构设计合理、实用性强。将其应用于工模具的表面，不仅能够增强工模具表层的硬度，而且此薄膜还具有结合力高、抗氧化能力强、耐腐蚀性和耐磨性好，从而可以大幅改善其服役寿命。
本发明授权一种TiZrAlSiN复合梯度薄膜及其制备方法在权利要求书中公布了：1.一种TiZrAlSiN复合梯度薄膜，其特征在于，包括：该薄膜包括依次沉积于基体1上的ZrZrN打底层2、TiAlZrN过渡层3、TiZrAlSiN表层4，所述ZrZrN打底层2的厚度为0.6～0.9μm，其中Zr层与所述基体相接触，ZrN层沉积于所述Zr层之上，所述Zr层厚度为0.2～0.3μm，所述ZrN层厚度为0.4～0.6μm。
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