吉林大学文懋获国家专利权
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龙图腾网获悉吉林大学申请的专利一种低摩耐磨TiNbMoTaCr/MoS2纳米多层膜及其制备方法和应用获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN117089815B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-12-02发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202311058559.5，技术领域涉及：C23C14/35；该发明授权一种低摩耐磨TiNbMoTaCr/MoS2纳米多层膜及其制备方法和应用是由文懋;李欣洳;何星嘉;张雨;张侃设计研发完成，并于2023-08-22向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种低摩耐磨TiNbMoTaCr/MoS2纳米多层膜及其制备方法和应用在说明书摘要公布了：本发明提供了一种低摩耐磨TiNbMoTaCrMoS2纳米多层膜及其制备方法和应用，涉及保护涂层材料技术领域。本发明提供的低摩耐磨TiNbMoTaCrMoS2纳米多层膜，包括交替叠层设置的TiNbMoTaCr纳米层和MoS2纳米润滑层；所述TiNbMoTaCr纳米层具有非晶和纳米晶共混的结构；所述MoS2纳米润滑层包括弯曲的MoS2纳米片。以本发明提供的低摩耐磨TiNbMoTaCrMoS2纳米多层膜作为金属的保护涂层，能够显著降低材料摩擦系数，提升金属材料的摩擦稳定性和耐久性。
本发明授权一种低摩耐磨TiNbMoTaCr/MoS2纳米多层膜及其制备方法和应用在权利要求书中公布了：1.一种耐磨TiNbMoTaCrMoS2纳米多层膜，包括交替叠层设置的TiNbMoTaCr高熵合金纳米层和MoS2纳米润滑层；所述TiNbMoTaCr高熵合金纳米层具有非晶和纳米晶共混的结构；所述MoS2纳米润滑层包括弯曲的MoS2纳米片；每层所述TiNbMoTaCr高熵合金纳米层的厚度为5~20nm，每层所述MoS2纳米润滑层的厚度为5~10nm，所述耐磨TiNbMoTaCrMoS2纳米多层膜的调制单元数为40~80个；每个调制单元内TiNbMoTaCr高熵合金纳米层和MoS2纳米润滑层的厚度比独立为10:5~10。
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