中国人民解放军国防科技大学王伟权获国家专利权
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龙图腾网获悉中国人民解放军国防科技大学申请的专利基于激光相对论透明加速的高能高产额电子束产生系统获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN117119665B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-12-02发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202311152137.4，技术领域涉及：H05H7/00；该发明授权基于激光相对论透明加速的高能高产额电子束产生系统是由王伟权;张普渡;银燕;魏玉清;董乾;马璐瑶;王宗超设计研发完成，并于2023-09-07向国家知识产权局提交的专利申请。
本基于激光相对论透明加速的高能高产额电子束产生系统在说明书摘要公布了：本申请属于粒子加速技术领域，涉及基于激光相对论透明加速的高能高产额电子束产生系统，包括：激光源、真空靶室、传输聚焦装置、固体靶以及光束分离模块；激光源设在真空靶室的外部并作为输入端，光束分离模块设在真空靶室的外部并作为输出端，传输聚焦装置以及固体靶均设在真空靶室的内部；固体靶的表面设有多个阵列分布的回转体结构，回转体结构的母线为正弦曲线，回转体结构的中心线朝向激光源的方向；激光源产生激光，并经过传输聚焦装置后射入固体靶，以经固体靶调制后射出电子束，电子束在光束分离模块的作用下产生高能高产额电子束。采用本申请能够产生高能高产额电子束。
本发明授权基于激光相对论透明加速的高能高产额电子束产生系统在权利要求书中公布了：1.基于激光相对论透明加速的高能高产额电子束产生系统，其特征在于，包括：激光源、真空靶室、传输聚焦装置、固体靶以及光束分离模块； 所述激光源设在所述真空靶室的外部并作为输入端，所述光束分离模块设在所述真空靶室的外部并作为输出端，所述传输聚焦装置以及所述固体靶均设在所述真空靶室的内部； 所述固体靶的表面设有多个阵列分布的回转体结构，即横纵叠加的正弦点阵结构，所述回转体结构的母线为正弦曲线，所述回转体结构的中心线朝向所述激光源的方向； 所述激光源产生激光，并经过所述传输聚焦装置后射入所述固体靶，以经所述固体靶调制后射出电子束，所述电子束在所述光束分离模块的作用下产生高能高产额电子束； 所述回转体结构的中心线与所述固体靶所在表面垂直，且所述回转体结构的中心线与激光平行； 所述固体靶的密度为80nc，其中，nc为等离子体临界密度。
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