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龙图腾网获悉华南理工大学申请的专利一种调控等离子氮碳共渗过程中的氮过饱和奥氏体相层厚度的方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN117165899B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-12-02发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202311055821.0，技术领域涉及：C23C8/38；该发明授权一种调控等离子氮碳共渗过程中的氮过饱和奥氏体相层厚度的方法是由罗建东;王慧龙设计研发完成，并于2023-08-21向国家知识产权局提交的专利申请。

本一种调控等离子氮碳共渗过程中的氮过饱和奥氏体相层厚度的方法在说明书摘要公布了：本发明公开了一种调控等离子氮碳共渗过程中的氮过饱和奥氏体相层厚度的方法，包括以下步骤：将316L不锈钢工件置于渗氮炉中在炉内压力为130Pa的条件下进行6h的等离子氮碳共渗，通过调节渗镀热力学温度、氮气体积占比和工件接阴极电压对γN相层厚度δ进行调控；δ的计算公式如下：式中，T为渗镀热力学温度，c为氮气体积占比，U为工件接阴极电压，±Δσ为误差项。本发明通过调节渗镀热力学温度、氮气体积占比和工件接阴极电压对等离子氮碳共渗过程中的γN相层厚度以及γN相层厚度占氮碳共渗改性层厚度的比例进行调控，从而可以提高工件表面的硬度和耐点蚀性。

本发明授权一种调控等离子氮碳共渗过程中的氮过饱和奥氏体相层厚度的方法在权利要求书中公布了：1.一种调控等离子氮碳共渗过程中的氮过饱和奥氏体相层厚度的方法，其特征在于，包括以下步骤：将316L不锈钢工件置于渗氮炉中在炉内压力为130Pa的条件下进行6h的等离子氮碳共渗，通过调节渗镀热力学温度、氮气体积占比和工件接阴极电压对γN相层厚度δ进行调控；所述δ的计算公式如下： 式中，T为渗镀热力学温度，c为氮气体积占比，U为工件接阴极电压，±Δσ为误差项； 所述等离子氮碳共渗的具体操作为： 1氢气预处理：将316L不锈钢工件置于渗氮炉中，再抽真空后通入氢气，再对工件表面进行氢等离子溅射； 2第一段低温等离子氮碳共渗：将甲烷、氮气、氢气和氩气通入渗氮炉，再对步骤1处理后的工件进行等离子氮碳共渗； 3第二段低温等离子氮碳共渗：将甲烷、氮气和氢气通入渗氮炉，再对步骤2处理后的工件进行等离子氮碳共渗，再随炉冷却至室温； 步骤2所述等离子氮碳共渗的操作参数为：甲烷流量为100mLmin～200mLmin，氮气流量为400mLmin～600mLmin，氢气流量为200mLmin～250mLmin，氩气流量为40mLmin～60mLmin，炉内压力保持在130Pa，工件接阴极电压为630V～880V，炉内温度为380℃～450℃，等离子氮碳共渗的时间为25min～35min； 步骤3所述等离子氮碳共渗的操作参数为：甲烷流量为100mLmin～200mLmin，氮气流量为500mLmin～600mLmin，炉内压力保持在130Pa，工件接阴极电压为630V～880V，炉内温度为380℃～450℃，等离子氮碳共渗的时间为265min～275min。

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