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龙图腾网获悉同济大学申请的专利一种基于多层膜的能量流调控薄膜结构获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN119209015B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-12-02发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202411261765.0，技术领域涉及：H01Q15/00；该发明授权一种基于多层膜的能量流调控薄膜结构是由程鑫彬;朱静远;董思禹;周思量;王占山;王绪泉;冯超设计研发完成，并于2024-09-10向国家知识产权局提交的专利申请。

本一种基于多层膜的能量流调控薄膜结构在说明书摘要公布了：本发明涉及一种基于多层膜的能量流调控薄膜结构，包括由下至上设置的基板、多层膜和超表面，所述多层膜包括高反膜，所述超表面包括超单元结构，所述多层膜还包括非周期膜，所述非周期膜分别与高反膜和超表面连接；通过调整非周期膜层的厚度实现更宽范围内的能量流调控。与现有技术相比，本发明通过设置非周期膜层，可以实现更宽和更强的能量流调控；在超表面设计上具有更大的自由度，减小了设计难度；解决了Littrow入射角度下多层膜宽带调控能力弱的问题；使用更多的超单元结构，增强了整个超表面的横向能量流传递能力；在中红外宽带范围内的激光波长可以实现99％以上的宽带Littrow反射效率。

本发明授权一种基于多层膜的能量流调控薄膜结构在权利要求书中公布了：1.一种基于多层膜的能量流调控薄膜结构，包括由下至上设置的基板1、多层膜和超表面4，所述多层膜包括高反膜2，所述超表面4包括超单元结构5，其特征在于，所述多层膜还包括非周期膜层3，所述非周期膜层3分别与高反膜2和超表面4连接；通过调整非周期膜层3的厚度实现宽带的能量流调控； 所述高反膜2和非周期膜层3为高折射率介质膜层H和低折射率介质膜层L交替设置构成的介质膜堆；所述非周期膜层3与高反膜2和超表面4的接触侧为低折射率介质膜层L； 所述非周期膜层3的厚度选择方法为： 基于确定的超表面4中超单元结构5的宽度，扫描非周期膜层3不同厚度下的Littrow反射效率，对厚度进行局部微调，使超表面4的超单元结构5达到最高的宽带Littrow反射效率； 所述超表面4包括多个周期为p的超单元周期，所述超单元周期包括n个不同宽度、高度相同的超单元结构5； 所述超表面4的超单元结构5高度的选择方法为： 对超表面4的单个超单元结构5的宽度进行扫描，使每个超单元结构5的反射相位能够覆盖0~2π的变化范围；利用n个不同宽度的超单元结构5和周期为p的超单元周期实现相位变化；其中，n≥4，n为正整数； 所述超表面4的超单元结构5宽度的选择方法为： 通过严格耦合波分析得到不同入射波长下超表面内部的坡印亭矢量理论值，对超表面4的超单元周期中n个超单元结构5宽度进行扫描，得到此时超表面4内的坡印亭矢量，使其与理论计算得到的目标值相匹配； 所述高反膜2结构为LH7，所述非周期膜层3结构为LHL。

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