武汉正源高理光学有限公司沙昭获国家专利权
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龙图腾网获悉武汉正源高理光学有限公司申请的专利一种多色透过式光栅的制作方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN119471879B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-12-02发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202411648841.3，技术领域涉及：G02B5/18；该发明授权一种多色透过式光栅的制作方法是由沙昭;李钦洲;陶旺旺;陈志涛设计研发完成，并于2024-11-19向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种多色透过式光栅的制作方法在说明书摘要公布了：本发明涉及透过式光栅技术领域，具体涉及一种多色透过式光栅的制作方法，该制作方法在明暗相间的条纹光栅的基础上，通过多次光刻套刻以及真空蒸发镀膜的方式在光栅对应区域依次沉积特定颜色光的窄带，确保在特定区域仅透过特定颜色光，从而制得多色透过式光栅，所制得的多色透过式光栅的光栅条宽度精度高。
本发明授权一种多色透过式光栅的制作方法在权利要求书中公布了：1.一种多色透过式光栅的制作方法，其特征在于包括以下步骤： S1、取干净且干燥的光学玻璃基片，在光学玻璃基片表面镀制金属遮光膜层；所述金属遮光膜层为铬膜，其在400-700nm波长区间满足透过率T＜0.1%； S2、在金属遮光膜层表面进行光刻，形成等距明暗相间的光栅条纹； S3、在带有光栅条纹的光学玻璃基片上通过光刻套刻分区并在指定光栅区域完成可透过特定颜色光的窄带镀膜，每次光刻套刻及镀膜完成后的窄带可透过特定颜色光的波长范围一致；光刻套刻及镀膜的具体步骤为： S3.1、在光学玻璃基片带有光栅条纹的一面涂覆光刻胶，干燥； S3.2、通过曝光、显影去除准备镀某一特定颜色光窄带的光栅区域表面的光刻胶，其余区域使用光刻胶掩膜遮挡，再烘干； S3.3、在准备镀某一特定颜色光窄带的光栅区域镀对应颜色光的透光膜层，透光膜层在该特定颜色光的波长区间满足透过率T＞90%，其余区域光进行截止； S3.4、对剩余光刻胶去胶剥离处理，并清洗及干燥； S4、再根据步骤S3中的方法在带有光栅条纹的光学玻璃基片上光刻套刻并镀膜完成可透过另一特定颜色光的窄带，直至光栅上预先设定的所有可透过颜色光的窄带均光刻套刻和镀膜完成，即得到多色透过式光栅； 步骤S3和步骤S4中窄带的宽度和步骤S2中明暗相间的光栅条纹的宽度一致。
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