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龙图腾网获悉深圳晶源信息技术有限公司申请的专利掩模板处理方法、装置、设备、介质及产品获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN119882343B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-12-02发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202510182484.4，技术领域涉及：G03F1/70；该发明授权掩模板处理方法、装置、设备、介质及产品是由易泽仁设计研发完成，并于2025-02-18向国家知识产权局提交的专利申请。

本掩模板处理方法、装置、设备、介质及产品在说明书摘要公布了：本申请公开了一种掩模板处理方法、装置、设备、介质及产品，涉及集成电路掩模设计技术领域。该方法包括：获取初始掩模板中掩模图形的图形属性与图形位置；根据各图形位置，将满足预设冲突关系的掩模图形划分至同一个冲突单元，得到多个冲突单元；将冲突单元属性相同的各冲突单元，划分至同一个冲突单元组，得到多个冲突单元组；对于每个冲突单元组，将冲突单元组中第一单元的各掩模图形，按照预设划分规则划分至对应子掩模组，得到第一图形划分结果；对于每个冲突单元组，根据第一图形划分结果，将冲突单元组中的第二单元的各掩模图形划分至对应子掩模组，得到第二图形划分结果；根据第一图形划分结果和第二图形划分结果，生成多个子掩模板。

本发明授权掩模板处理方法、装置、设备、介质及产品在权利要求书中公布了：1.一种掩模板处理方法，其特征在于，包括： 获取初始掩模板中各掩模图形的图形属性与图形位置； 根据各所述图形位置，将满足预设冲突关系的所述掩模图形划分至同一个冲突单元中，得到多个所述冲突单元； 将冲突单元属性相同的各所述冲突单元，划分至同一个冲突单元组中，得到多个所述冲突单元组，所述冲突单元属性包括所述冲突单元中包含的掩模图形的图形属性与所述掩模图形之间的位序属性； 对于每个所述冲突单元组，将所述冲突单元组中第一单元的各所述掩模图形，按照预设划分规则划分至对应的子掩模组中，得到第一图形划分结果，所述第一单元为所述冲突单元组中任意一个所述冲突单元； 对于每个所述冲突单元组，根据所述第一图形划分结果，将所述冲突单元组中的第二单元的各所述掩模图形划分至对应的子掩模组中，得到第二图形划分结果，所述第二单元为所述冲突单元组中除所述第一单元之外的各所述冲突单元； 根据所述第一图形划分结果和所述第二图形划分结果，生成多个子掩模板。

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