湖北九峰山实验室胡昌宇获国家专利权
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龙图腾网获悉湖北九峰山实验室申请的专利一种波分复用/解复用系统及其制备方法获国家发明授权专利权,本发明授权专利权由国家知识产权局授予,授权公告号为:CN120703910B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-12-02发布的发明授权授权公告中获悉:该发明授权的专利申请号/专利号为:202511168227.1,技术领域涉及:G02B6/293;该发明授权一种波分复用/解复用系统及其制备方法是由胡昌宇;周致远;刘世航;贾汉祥;胡浩;赵波;柳俊设计研发完成,并于2025-08-20向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种波分复用/解复用系统及其制备方法在说明书摘要公布了:本发明提供一种基于微环结构和相变材料调制的波分复用解复用系统及其制备方法,属于光耦合装置领域。该波分复用解复用系统包括层叠的衬底和埋氧层,以及位于埋氧层上表面上的nn为≥2的正整数个微环单元和上包层。上包层覆盖于n个微环单元之上,并与埋氧层接触。每个微环单元包括直通波导和至少一个微环波导。n个微环单元通过直通波导连接成一个整体。微环波导包括第一环形波导和位于第一环形波导之上的第二环形波导。第二环形波导的材料为相变材料,其与第一环形波导之间存在第四间距。微环波导沿直通波导延伸的方向间隔排列。直通波导与微环波导之间存在第一间距。该波分复用解复用系统具有低能耗、低损耗、非易失性等性能。
本发明授权一种波分复用/解复用系统及其制备方法在权利要求书中公布了:1.一种基于微环结构和相变材料调制的波分复用解复用系统,其特征在于,包括衬底、位于所述衬底一侧表面上的埋氧层、位于所述埋氧层背离所述衬底的表面上的n个微环单元和上包层;所述上包层覆盖于n个所述微环单元之上,并与所述埋氧层接触;每个所述微环单元包括直通波导和至少一个微环波导;n个所述微环单元通过所述直通波导连接成一个整体;所述微环波导包括第一环形波导和位于所述第一环形波导之上的第二环形波导;所述第二环形波导与所述第一环形波导之间存在第四间距;所述第四间距为沿所述衬底到所述上包层的方向上,所述第一环形波导与所述第二环形波导之间的距离;所述第二环形波导的材料为相变材料;所述微环波导沿所述直通波导延伸的方向间隔排列;所述直通波导与所述微环波导之间存在第一间距;沿所述直通波导延伸的方向上,所述第二环形波导的环宽为350~1000nm,所述第一环形波导的中心线与所述第二环形波导的中心线在所述埋氧层的上表面上的正投影之间的距离为100~600nm;n为≥2的正整数。
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