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龙图腾网获悉香港科技大学(广州)申请的专利微纳加工样品流程追踪方法、装置、存储介质及设备获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN120747053B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-12-02发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202511180715.4，技术领域涉及：G06T7/00；该发明授权微纳加工样品流程追踪方法、装置、存储介质及设备是由吴朝阳;李艺杰;李季;徐巍设计研发完成，并于2025-08-22向国家知识产权局提交的专利申请。

本微纳加工样品流程追踪方法、装置、存储介质及设备在说明书摘要公布了：本发明提供微纳加工样品流程追踪方法、装置、存储介质及设备，包括：步骤S101，在样品进行微纳加工之前，获取样品表面的初始缺陷特征集合；步骤S102，从初始缺陷特征集合中选取任意一个区域的缺陷特征作为缺陷特征第一集合；步骤S103，当样品执行微纳加工任意一个步骤后，获取样品选定区域的缺陷特征第二集合；步骤S104，若缺陷特征第二集合与缺陷特征第一集合的匹配度小于第一阈值，发送样品确认提示信息；步骤S105，若接收到样品一致的确认信息，结合缺陷特征第二集合更新初始缺陷特征集合，并返回执行步骤S102‑S105，直至结束微纳加工流程。

本发明授权微纳加工样品流程追踪方法、装置、存储介质及设备在权利要求书中公布了：1.一种微纳加工样品流程追踪方法，其特征在于，包括： 步骤S101，在样品进行微纳加工之前，获取样品表面的初始缺陷特征集合； 步骤S102，从所述初始缺陷特征集合中选取任意一个区域的缺陷特征作为缺陷特征第一集合； 步骤S103，当样品执行微纳加工任意一个步骤后，获取样品选定区域的缺陷特征第二集合； 步骤S104，若所述缺陷特征第二集合与缺陷特征第一集合之间的特征数量差值、与缺陷特征第一集合的特征数量相比高于第一比例；或所述缺陷特征第二集合中任意一个缺陷特征的第二面积与该缺陷特征在特征缺陷第一集合中第一面积的面积差值，与第一面积相比高于第二比例，并且面积差值高于第二比例的数量超过面积数量阈值；或所述缺陷特征第二集合中任意一个缺陷特征的第二面积超过预设面积阈值，发送样品确认提示信息； 步骤S105，若接收到样品一致的确认信息，结合所述缺陷特征第二集合更新所述初始缺陷特征集合，并返回执行步骤S102-S105，直至结束微纳加工流程； 所述从所述初始缺陷特征集合中选取任意一个区域的缺陷特征作为缺陷特征第一集合，具体为： 从所述初始缺陷特征集合中选取任意一个角区域和该角区域相邻的边上的缺陷特征作为缺陷特征第一集合； 所述样品确认提示信息用于提醒用户或工作人员该微纳加工前后样片是否发生变化，对相同样片发生变化后的特征进行校验。

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