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浙江大学陈正佳获国家专利权

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龙图腾网获悉浙江大学申请的专利基于SiC晶圆缺陷分布的电学参数预测方法和装置获国家发明授权专利权,本发明授权专利权由国家知识产权局授予,授权公告号为:CN120749034B

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-12-02发布的发明授权授权公告中获悉:该发明授权的专利申请号/专利号为:202511233846.4,技术领域涉及:H01L21/66;该发明授权基于SiC晶圆缺陷分布的电学参数预测方法和装置是由陈正佳;盛况;任娜;徐弘毅;韦丽明设计研发完成,并于2025-09-01向国家知识产权局提交的专利申请。

基于SiC晶圆缺陷分布的电学参数预测方法和装置在说明书摘要公布了:本申请涉及基于SiC晶圆缺陷分布的电学参数预测方法和装置,包括:获取训练晶圆中每个测试结构的缺陷参数,通过训练晶圆流片后的电学测试获取测试结构电学参数;通过缺陷参数分布以及电学参数构建数据集,对初始晶圆缺陷预测模型进行训练,得到迭代优化的晶圆缺陷预测模型;获取待评估晶圆的实例缺陷参数以及设计版图,将实例缺陷参数以及设计版图输入晶圆缺陷预测模型,得到待评估晶圆中每个设计测试结构的电学参数,其中,该训练晶圆和待评估晶圆为SiC晶圆,解决传统技术中通过人工依靠经验对SiC晶圆的质量进行判断的准确率和整体效率较低的问题,能够晶圆制造前期筛选晶圆的等级,并基于评价指标给出该晶圆适合的制作的SiC器件。

本发明授权基于SiC晶圆缺陷分布的电学参数预测方法和装置在权利要求书中公布了:1.一种基于SiC晶圆缺陷分布的电学参数预测方法,其特征在于,所述方法包括: 基于预设测试版图,获取训练晶圆中每个测试结构的缺陷参数; 对每个所述测试结构进行电性测试,得到每个测试结构的电学参数;所述测试结构为对所述晶圆基于所述预设测试版图进行流片得到; 通过每个测试结构的缺陷参数、预设测试版图以及每个测试结构的电学参数构建数据集,并对初始晶圆缺陷预测模型进行训练,得到迭代优化的晶圆缺陷预测模型; 获取待评估晶圆的实例缺陷参数以及设计版图,并将所述实例缺陷参数以及设计版图输入晶圆缺陷预测模型,得到待评估晶圆中每个设计测试结构的电学参数;所述训练晶圆和待评估晶圆为SiC晶圆。

如需购买、转让、实施、许可或投资类似专利技术,可联系本专利的申请人或专利权人浙江大学,其通讯地址为:310000 浙江省杭州市西湖区余杭塘路866号;或者联系龙图腾网官方客服,联系龙图腾网可拨打电话0551-65771310或微信搜索“龙图腾网”。

以上内容由龙图腾AI智能生成。

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