中国科学院理化技术研究所李嫕获国家专利权
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龙图腾网获悉中国科学院理化技术研究所申请的专利一种基于聚苄醚的自分解型聚合物、其制备方法及包含其的非化学放大型光刻胶获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN120795304B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-12-02发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202511254887.1，技术领域涉及：C08G65/00；该发明授权一种基于聚苄醚的自分解型聚合物、其制备方法及包含其的非化学放大型光刻胶是由李嫕;任泽瑜;曾毅;陈金平;于天君设计研发完成，并于2025-09-04向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种基于聚苄醚的自分解型聚合物、其制备方法及包含其的非化学放大型光刻胶在说明书摘要公布了：本发明公开一种基于聚苄醚的自分解型聚合物、其制备方法及包含其的非化学放大型光刻胶。所述聚合物的通式结构如下所示结构中的一种，其可以用作单组分非化学放大型光刻胶主体材料，当制备的聚合物薄膜被曝光后，通过端基的离去和聚苄醚骨架沿着主链的电子共振重排带来的级联自分解，生成小分子量的单体，从而产生曝光区与非曝光区的溶解度差异，避免了传统非化学放大型光刻胶存在的灵敏度低等问题，在实现高灵敏度的同时，将分解反应限制在单个聚合物分子上，使得到的图案具有低的线边缘粗糙度和高的分辨率。I、II、III、IV
本发明授权一种基于聚苄醚的自分解型聚合物、其制备方法及包含其的非化学放大型光刻胶在权利要求书中公布了：1.非化学放大型光刻胶，其特征在于，按重量百分数计，包括0.1-10wt%的基于聚苄醚的自分解型聚合物，所述聚合物被用作非化学放大型光刻胶主体材料； 所述聚合物的通式结构如下所示结构中的一种： I、II、III、IV； 其中，R1、R2各自独立地代表H或C1-10烷氧基，R1、R2可互相连接形成含有1-2个O原子的五元环或六元环结构； R3代表H或C1-10烷基； R4、R5为所在苯环的取代基，R4代表H或C1-10烷基，R5代表H、-O-C=O-C3-10环烷基、-O-C1-10烷基-C2-10烯基、-O-C1-10烷基-C6-10芳基中的任意一种； n的取值范围为5-2000的正整数。
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