北京阿法龙科技有限公司徐培培获国家专利权
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龙图腾网获悉北京阿法龙科技有限公司申请的专利基于纳米压印的超表面光栅结构、其制造方法及系统获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN120821012B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-12-02发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202511325874.9，技术领域涉及：G02B5/18；该发明授权基于纳米压印的超表面光栅结构、其制造方法及系统是由徐培培设计研发完成，并于2025-09-17向国家知识产权局提交的专利申请。
本基于纳米压印的超表面光栅结构、其制造方法及系统在说明书摘要公布了：本发明公开了一种基于纳米压印的超表面光栅结构、其制造方法及系统，属于光学器件技术领域，其技术方案要点是包括，在衬底上方依次沉积形成布拉格反射镜的势垒层、中间层和顶层；在布拉格反射镜的顶层上方沉积形成刻蚀层；根据预设模版在刻蚀层表面形成图案；根据图案对刻蚀层进行刻蚀，得到光栅区域和圆形监测区域，本发明通过实时监测布拉格反射镜和圆形监测区域形成的光学共振腔的波长，当波长达到目标波长时停止刻蚀，相比于传统的刻蚀速率标定和人工观察的方法，本发明基于共振条件精准检测波长，以实现对刻蚀深度的精准控制，同时本发明复用器件中原有的势垒层作为布拉格反射镜的高折射率层，降低制作成本。
本发明授权基于纳米压印的超表面光栅结构、其制造方法及系统在权利要求书中公布了：1.一种基于纳米压印的超表面光栅结构制造方法，其特征在于，包括： 在衬底上方依次沉积形成布拉格反射镜的势垒层、中间层和顶层； 在所述布拉格反射镜的顶层上方沉积形成刻蚀层； 根据预设模版在所述刻蚀层表面形成图案； 根据所述图案对所述刻蚀层进行刻蚀，得到光栅区域和圆形监测区域； 其中，所述根据所述图案对所述刻蚀层进行刻蚀，得到光栅区域和圆形监测区域，包括： 获取圆形监测区域的出射光； 根据所述出射光得到光学共振腔对应的当前波长，所述光学共振腔包括所述布拉格反射镜和所述圆形监测区域； 根据所述波长对所述刻蚀层进行刻蚀，得到所述光栅区域和所述圆形监测区域； 其中，所述根据所述波长对所述刻蚀层进行刻蚀，得到所述光栅区域和所述圆形监测区域，包括： 根据所述光栅区域对应的目标深度确定所述光学共振腔的目标腔长； 根据所述目标腔长与共振条件确定目标波长； 若所述当前波长达到所述目标波长，停止刻蚀，得到所述光栅区域和所述圆形监测区域。
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2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
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