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万气精仪(苏州)气体设备有限公司唐鑫获国家专利权

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龙图腾网获悉万气精仪(苏州)气体设备有限公司申请的专利一种硅同位素富集的微通道低温精馏装置获国家发明授权专利权,本发明授权专利权由国家知识产权局授予,授权公告号为:CN120838172B

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-12-02发布的发明授权授权公告中获悉:该发明授权的专利申请号/专利号为:202511332270.7,技术领域涉及:B01D59/04;该发明授权一种硅同位素富集的微通道低温精馏装置是由唐鑫;王刚设计研发完成,并于2025-09-18向国家知识产权局提交的专利申请。

一种硅同位素富集的微通道低温精馏装置在说明书摘要公布了:本申请公开了一种硅同位素富集的微通道低温精馏装置,包括:进料口、塔底取料口、塔顶取料口以及精馏塔,所述进料口被配置为通入自然丰度的高纯SiF4气体;所述精馏塔包括多个螺旋线型内塔,所述螺旋线型内塔包括干式再沸器、螺旋线型填料段以及冷凝器,所述螺旋线型填料段通过3D打印得到,所述螺旋线型填料段的填料为第一多孔薄壁结构,所述第一多孔薄壁结构包括第一薄壁以及第一薄壁围成的供气体流动的气体通道,所述第一薄壁被配置为供液体流动的表面,该装置小型化程度高,空间利用率与制造成本优势突出,并以四氟化硅为核心工质,实现硅同位素的富集。

本发明授权一种硅同位素富集的微通道低温精馏装置在权利要求书中公布了:1.一种硅同位素富集的微通道低温精馏装置,其特征在于,包括:进料口1、塔底取料口2、塔顶取料口3以及精馏塔,所述进料口1被配置为通入自然丰度的高纯SiF4气体; 所述精馏塔包括多个螺旋线型内塔6,所述螺旋线型内塔6包括干式再沸器61、螺旋线型填料段62以及冷凝器63,所述螺旋线型填料段62通过3D打印得到,所述螺旋线型填料段62的填料为第一多孔薄壁结构,所述第一多孔薄壁结构包括第一薄壁以及第一薄壁围成的供气体流动的气体通道,所述第一薄壁被配置为供液体流动的表面,所述第一多孔薄壁结构的薄壁为多孔介质材料,所述第一薄壁的厚度范围50μm-300μm,其被设计成与气体通道交替排布,所述螺旋线型填料段有倾斜角,利用重力驱动液体在所述第一薄壁内沿重力方向向下流动,同时蒸汽沿螺旋通道向上流动,与气体通道的蒸汽形成逆向接触; 所述干式再沸器61位于所述螺旋线型填料段62的底部,并被配置为对沿所述螺旋线型填料段62的第一薄壁在重力和所述第一多孔薄壁结构的毛细力的作用下向下流动的液体进行加热,所述冷凝器63位于所述螺旋线型填料段62的顶部并被配置为将通过所述气体通道向上流动的气体冷凝成液体,所述塔底取料口2被配置为输出富集的28SiF4产物,所述塔顶取料口3被配置为输出富集的29SiF4和30SiF4气体产物。

如需购买、转让、实施、许可或投资类似专利技术,可联系本专利的申请人或专利权人万气精仪(苏州)气体设备有限公司,其通讯地址为:215500 江苏省苏州市常熟市碧溪街道通江路305号;或者联系龙图腾网官方客服,联系龙图腾网可拨打电话0551-65771310或微信搜索“龙图腾网”。

以上内容由龙图腾AI智能生成。

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