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龙图腾网获悉上海邦芯半导体科技有限公司申请的专利一种光学眼镜内部倾斜光栅及其制造方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN120891573B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-12-02发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202511403578.6，技术领域涉及：G02B5/18；该发明授权一种光学眼镜内部倾斜光栅及其制造方法是由王士京;朱佳乐;吴倩;何德钦;李建国;吴可学;陆赟设计研发完成，并于2025-09-29向国家知识产权局提交的专利申请。

本一种光学眼镜内部倾斜光栅及其制造方法在说明书摘要公布了：本申请涉及半导体光学器件精密制造技术领域，公开了一种光学眼镜内部倾斜光栅及其制造方法，包括在衬底的掩膜层上形成倾斜的压印胶图形并进行第一处理，通过压印胶图形对掩膜层进行倾斜刻蚀形成同向倾斜的掩膜图形并进行第二处理形成第一氧化物层，在掩膜图形的表面上形成第二氧化物层并进行回刻形成侧墙结构，以带有侧墙结构的掩膜图形为掩膜，对衬底的露出表面进行倾斜刻蚀，形成同向倾斜的第一光栅，在衬底的表面上形成覆盖第一光栅的低折射率材料层，并通过平坦化去除第一光栅的顶部，形成第二光栅。本申请通过优化图形化工艺，能够提升光栅整体的刻蚀形貌，并实现倾斜侧壁的光滑处理，适用于增强光学性能，提高衍射效率及长期稳定性。

本发明授权一种光学眼镜内部倾斜光栅及其制造方法在权利要求书中公布了：1.一种光学眼镜内部倾斜光栅的制造方法，其特征在于，依次包括： 在衬底上形成掩膜层； 在所述掩膜层上形成同向倾斜的多个压印胶图形； 对所述压印胶图形的表面进行第一处理，以去除毛刺； 通过进行所述第一处理后的压印胶图形，并沿其倾斜方向，对所述掩膜层进行刻蚀图形化，在所述衬底上形成同向倾斜的多个掩膜图形； 对所述掩膜图形的表面进行第二处理，形成第一氧化物层； 采用原子层沉积工艺，在进行所述第二处理后的掩膜图形的表面上形成第二氧化物层； 对所述第二氧化物层进行回刻，在所述掩膜图形的两侧侧面上形成表面光滑的侧墙结构； 以带有所述侧墙结构的所述掩膜图形为掩膜，并沿其倾斜方向，对所述衬底的露出表面进行刻蚀，直至所述掩膜图形被完全刻蚀消耗，在所述衬底上形成同向倾斜的多个光栅沟槽，并在相邻两个所述光栅沟槽之间形成第一光栅； 在所述衬底的表面上形成低折射率材料层，并将所述光栅沟槽填满； 采用平坦化工艺，去除所述衬底表面上多余的所述低折射率材料层和所述第一光栅的顶部，在相邻两个所述光栅沟槽之间形成第二光栅。

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