日东电工株式会社宫本幸大获国家专利权
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龙图腾网获悉日东电工株式会社申请的专利防反射薄膜及图像显示装置获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN113391380B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-12-05发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202110261906.9，技术领域涉及：G02B1/11；该发明授权防反射薄膜及图像显示装置是由宫本幸大;高见佳史;梨木智刚设计研发完成，并于2021-03-10向国家知识产权局提交的专利申请。
本防反射薄膜及图像显示装置在说明书摘要公布了：本发明涉及防反射薄膜及图像显示装置。防反射薄膜100在薄膜基材1上具备包含多个薄膜的防反射层5。防反射层是包含低折射率层及高折射率层各自至少1层作为薄膜的多层薄膜。对于防反射薄膜，从防反射层侧照射的D65光源的正反射光优选满足：A2°入射光的正反射光的视感反射率Y2与θ°入射光的正反射光的视感反射率Yθ在5～50°的范围的任意角度θ中满足YθY2≤6.0；及B2°入射光的正反射光的色度指数a*2及b*2与θ°入射光的正反射光的色度指数a*θ及b*θ在5～50°的范围的任意角度θ中满足{a*2‑a*θ2+b*2‑b*θ2}12≤6.0。
本发明授权防反射薄膜及图像显示装置在权利要求书中公布了：1.一种防反射薄膜，其在薄膜基材上具备防反射层，所述防反射层包含多个薄膜， 所述防反射层自所述薄膜基材侧起包含具备膜厚8～10nm的Nb2O5层、膜厚41～45nm的SiO2层、膜厚21～25nm的Nb2O5层、膜厚18～20nm的SiO2层、膜厚77～95nm的Nb2O5层、膜厚10.5～15nm的SiO2层、膜厚25～30nm的Nb2O5层及膜厚60～89nm的SiO2层的共计8层薄膜， 从所述防反射层侧照射的D65光源的正反射光满足下述的特性A及B： A2°入射光的正反射光的视感反射率Y2与θ°入射光的正反射光的视感反射率Yθ在5～50°的范围的任意角度θ中满足YθY2≤6.0 B2°入射光的正反射光的色度指数a*2及b*2与θ°入射光的正反射光的色度指数a*θ及b*θ在5～50°的范围的任意角度θ中满足{a*2-a*θ2+b*2-b*θ2}12≤6.0。
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