东京毅力科创株式会社中山博之获国家专利权
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龙图腾网获悉东京毅力科创株式会社申请的专利检查装置获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN113937021B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-12-05发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202110751970.5，技术领域涉及：H01L21/66；该发明授权检查装置是由中山博之设计研发完成，并于2021-07-02向国家知识产权局提交的专利申请。
本检查装置在说明书摘要公布了：本发明提供一种可提高基片的温度调节的响应性的检查装置。本发明的检查装置包括：能够载置基片的载置台；冷却部，其对载置在所述载置台上的所述基片进行冷却；探针卡，其具有与所述基片接触来进行供电的探针；光照射机构，其对所述基片的与载置面相反的面照射光；和控制所述光照射机构的控制部。
本发明授权检查装置在权利要求书中公布了：1.一种检查装置，其特征在于，包括： 能够载置基片的载置台； 冷却部，其对载置在所述载置台上的所述基片进行冷却； 探针卡，其具有与所述基片接触来进行供电的探针； 光照射机构，其对与载置于所述载置台上的所述基片的载置面相反侧的所述基片的上表面照射光；和 控制所述光照射机构的控制部， 所述光照射机构具有多个光源， 多个所述光源在所述探针的外周在径向上配置多列，且向与所述探针连接的电子器件倾斜地配置， 所述控制部将多列所述光源分为向与所述探针连接的电子器件的内周侧照射的内周侧的光源组和向与所述探针连接的电子器件的外周侧照射的外周侧的光源组，控制各个所述光源组的光量，从而控制所述光照射机构的光量分布。
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2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
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