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SLM方案集团股份公司安德烈·斯科贝尔获国家专利权

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龙图腾网获悉SLM方案集团股份公司申请的专利操作用于生产三维工件的设备的方法和用于生产三维工件的设备获国家发明授权专利权,本发明授权专利权由国家知识产权局授予,授权公告号为:CN115916434B

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-12-05发布的发明授权授权公告中获悉:该发明授权的专利申请号/专利号为:202180041996.9,技术领域涉及:B22F10/28;该发明授权操作用于生产三维工件的设备的方法和用于生产三维工件的设备是由安德烈·斯科贝尔设计研发完成,并于2021-06-15向国家知识产权局提交的专利申请。

操作用于生产三维工件的设备的方法和用于生产三维工件的设备在说明书摘要公布了:操作用于生产三维工件的设备的方法和用于生产三维工件的设备。一种操作用于通过用电磁辐射或粒子辐射对原料粉末的层进行辐照来生产三维工件1S的设备10的方法,该方法包括以下步骤:a将原料粉末的层施加到载体12上;b根据待生产的工件18的对应层的几何形状,用电磁辐射或粒子辐射对原料粉末的层进行选择性地辐照;以及c重复步骤a和b,直到工件18达到所需的形状和尺寸。对于至少一些层的至少一部分,控制从相应的原料粉末层部分开始暴露于电磁辐射或粒子辐射直到施加在所述层部分的顶部上的新的原料粉末层开始暴露于电磁辐射或粒子辐射的扫描时间G,以使扫描时间不低于根据层部分特定质量参数为所述层部分单独设定的特定最小值。层部分特定质量参数。

本发明授权操作用于生产三维工件的设备的方法和用于生产三维工件的设备在权利要求书中公布了:1.操作用于通过用电磁辐射或粒子辐射对原料粉末的层进行辐照来生产三维工件18的设备10的方法,所述方法包括以下步骤: a将原料粉末的层施加到载体12上; b根据待生产的所述三维工件18的对应层的几何形状,用电磁辐射或粒子辐射对所述原料粉末的层进行选择性地辐照;以及 c重复步骤a和b,直到所述三维工件18达到所需的形状和尺寸, 其中,对于至少一些层的至少一部分, -暴露时间t被限定为在层部分暴露于电磁辐射或粒子辐射期间的时间段, -等待时间t被限定为在所述层部分不暴露于电磁辐射或粒子辐射并且没有在所述层部分的顶部上施加新的原料粉末层期间的时间段,以及 -原料粉末施加时间t被限定为在所述层部分的顶部上施加新的原料粉末层期间的时间段, 所述暴露时间、所述等待时间和所述原料粉末施加时间被控制为使得从相应的原料粉末层部分开始暴露于电磁辐射或粒子辐射直到施加在所述层部分的顶部上的新的原料粉末层开始暴露于电磁辐射或粒子辐射的扫描时间t由以下公式限定: 扫描时间t=暴露时间t+等待时间t+原料粉末施加时间t 所述扫描时间不低于根据层部分特定质量参数为所述层部分单独设定的特定最小值, 其中,所述层部分特定质量参数指示相应的层的至少一部分和相邻的层的至少一部分之间的暴露区域的突然变化。

如需购买、转让、实施、许可或投资类似专利技术,可联系本专利的申请人或专利权人SLM方案集团股份公司,其通讯地址为:德国吕贝克;或者联系龙图腾网官方客服,联系龙图腾网可拨打电话0551-65771310或微信搜索“龙图腾网”。

以上内容由龙图腾AI智能生成。

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