株式会社日本显示器木村辽太郎获国家专利权
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龙图腾网获悉株式会社日本显示器申请的专利蒸镀掩模及其制造方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN116162890B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-12-05发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202211424286.7，技术领域涉及：C23C14/04；该发明授权蒸镀掩模及其制造方法是由木村辽太郎;渡部将弘设计研发完成，并于2022-11-15向国家知识产权局提交的专利申请。
本蒸镀掩模及其制造方法在说明书摘要公布了：本发明要解决的技术问题是，提供能够使掩模图案的膜厚均匀、并且防止周边部的强度降低的蒸镀掩模及其制造方法。本发明的一个实施方式的蒸镀掩模包括：掩模主体，其包括第1开口区域和与所述第1开口区域相邻的第2开口区域，在所述第1开口区域形成有多个第1开口，在所述第2开口区域形成有多个第2开口；用于支承所述掩模主体的保持框；和用于将所述掩模主体与所述保持框连接的连接部，所述第2开口区域的至少一部分与所述连接部重叠，所述第2开口区域的开口比例与所述第1开口区域的开口比例之差为20％以下。
本发明授权蒸镀掩模及其制造方法在权利要求书中公布了：1.一种蒸镀掩模，其特征在于，包括： 掩模主体，其包括第1开口区域和与所述第1开口区域相邻的第2开口区域，在所述第1开口区域形成有多个第1开口，在所述第2开口区域形成有多个第2开口； 用于支承所述掩模主体的保持框；和 用于将所述掩模主体与所述保持框连接的连接部， 所述第2开口区域的至少一部分与所述连接部重叠， 所述第2开口区域的开口比例与所述第1开口区域的开口比例之差为20％以下， 所述连接部填充所述第2开口区域的至少一部分的第2开口。
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2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
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