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龙图腾网获悉北京点阵虹光光电科技有限公司申请的专利光纤耦合器及其制作方法、光通信系统获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN120595431B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-12-12发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202511106272.4，技术领域涉及：G02B6/26；该发明授权光纤耦合器及其制作方法、光通信系统是由徐朝鹏;郝嘉彬;韩琦琦设计研发完成，并于2025-08-08向国家知识产权局提交的专利申请。

本光纤耦合器及其制作方法、光通信系统在说明书摘要公布了：本申请涉及一种光纤耦合器及其制作方法、光通信系统，涉及光电子耦合器技术领域。光纤耦合器包括同光轴依次设置的第一超构表面层、第二超构表面层和光纤。第一超构表面层具有光入射面，第一超构表面层的背离光入射面的一侧设置有第一亚波长结构阵列，第一亚波长结构阵列将入射光聚焦至光纤的第一端面；第二超构表面层设置于光纤的第一端面，第二超构表面层包括朝向第一超构表面层设置的第二亚波长结构阵列，第二亚波长结构阵列将聚焦光耦合进光纤。第一超构表面层将入射光聚焦到光纤的第一端面，第二超构表面层对聚焦光整形使光场分布接近光纤模场分布，提高光场与光纤之间的耦合效率。

本发明授权光纤耦合器及其制作方法、光通信系统在权利要求书中公布了：1.一种光纤耦合器，其特征在于，包括同光轴依次设置的第一超构表面层、第二超构表面层和光纤； 所述第一超构表面层具有光入射面，所述第一超构表面层的背离所述光入射面的一侧设置有第一亚波长结构阵列，所述第一亚波长结构阵列包括多个第一纳米柱，所述第一亚波长结构阵列将入射光聚焦至所述光纤朝向所述第一超构表面层的第一端面； 所述第二超构表面层设置于所述第一端面，所述第二超构表面层用于补偿所述第一超构表面层引入的残余相位误差，所述第二超构表面层包括朝向所述第一超构表面层设置的第二亚波长结构阵列，所述第二亚波长结构阵列将聚焦光耦合进所述光纤； 所述第一超构表面层包括沿径向方向依次设置的中心区域、中间区域和边缘区域； 所述中间区域的所述第一纳米柱的径向尺寸的平均值大于所述中心区域的所述第一纳米柱的径向尺寸的平均值；所述中间区域的所述第一纳米柱的径向尺寸的平均值大于所述边缘区域的所述第一纳米柱的径向尺寸的平均值； 其中，所述光纤耦合器的工作波段为1547nm-1552nm。

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