武汉太初纳米科技有限公司;特步(中国)有限公司沈轲获国家专利权
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龙图腾网获悉武汉太初纳米科技有限公司;特步(中国)有限公司申请的专利一种自修复复合微胶囊薄膜获国家实用新型专利权,本实用新型专利权由国家知识产权局授予,授权公告号为:CN223657774U 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-12-12发布的实用新型授权公告中获悉:该实用新型的专利申请号/专利号为:202423296951.6,技术领域涉及:B32B33/00;该实用新型一种自修复复合微胶囊薄膜是由沈轲;智军;李桂华;曹馨文设计研发完成,并于2024-12-31向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种自修复复合微胶囊薄膜在说明书摘要公布了:本实用新型属于薄膜技术领域,具体为一种自修复复合微胶囊薄膜,包括位于本体底部的基底膜,还包括:在基底膜上端并沿其外围形成闭口的复合框,所述复合框为玻璃纤维和聚乙烯成型构件;位于复合框内侧且成型在基底膜上的抗压颗粒,所述抗压颗粒呈半圆状均匀错开分布;可以理解的是,通过设置多层的微胶囊层然后利用复合框和抗压颗粒形成内外的支撑,微胶囊层的分层能根据压力不同按层修复,耐用性得到了增加,复合框、抗压颗粒的支撑则在确保薄膜特性的同时对微胶囊层起到保护作用,避免大面积压力导致微胶囊层整体失效,灵活性更高。
本实用新型一种自修复复合微胶囊薄膜在权利要求书中公布了:1.一种自修复复合微胶囊薄膜,包括位于本体底部的基底膜1,其特征在于,还包括: 在基底膜1上端并沿其外围形成闭口的复合框2,所述复合框2为玻璃纤维和聚乙烯成型构件; 位于复合框2内侧且成型在基底膜1上的抗压颗粒3,所述抗压颗粒3呈半圆状均匀错开分布; 由多层设置且位于复合框2内侧和上端的微胶囊层4,通过外围的复合框2和内侧的抗压颗粒3用于阻挡大面积压迫,同时在微胶囊层4中形成支撑。
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