派珂纳米科技(苏州)有限公司李雷获国家专利权
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龙图腾网获悉派珂纳米科技(苏州)有限公司申请的专利一种间歇派瑞林真空镀膜装置及其方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN120844053B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-12-16发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202511341459.2，技术领域涉及：C23C16/44；该发明授权一种间歇派瑞林真空镀膜装置及其方法是由李雷;渠艳良设计研发完成，并于2025-09-19向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种间歇派瑞林真空镀膜装置及其方法在说明书摘要公布了：本发明提供了一种间歇派瑞林真空镀膜装置及其方法，所述间歇派瑞林真空镀膜装置重点对沉积系统进行改进，在沉积腔体内部，正对进气口的位置，设置六边形分流板。在实际应用过程中，来自裂解加热系统的派瑞林活性单体从进气口进入沉积腔体内部，冲击在六边形分流板上实现各个方向的均匀扩散，有助于提高派瑞林真空镀膜的膜厚均匀性。
本发明授权一种间歇派瑞林真空镀膜装置及其方法在权利要求书中公布了：1.一种间歇派瑞林真空镀膜装置，其特征在于，所述间歇派瑞林真空镀膜装置包括依次串联的气化加热系统、裂解加热系统、沉积系统；所述间歇派瑞林真空镀膜装置还包括真空系统、尾气处理系统、控制系统；所述真空系统与所述沉积系统相连通，用于提供真空环境；所述尾气处理系统用于收集并处理所述真空系统排出的尾气；所述控制系统用于分别对所述气化加热系统、所述裂解加热系统、所述沉积系统、所述真空系统、所述尾气处理系统进行监测和控制； 其中，所述沉积系统包括沉积腔体，在所述沉积腔体的侧面开设两个进气口，两个所述进气口处于相同的投影位置并分别对应所述沉积腔体的上部和下部；在所述沉积腔体的侧面设置锥形凹槽，所述锥形凹槽位于两个所述进气口的中间位置，用于减少进气湍流；在所述沉积腔体内部，正对两个所述进气口的位置，设置结合式分流板，所述结合式分流板呈上下两个六边形结合的形状，上下两个六边形通过短边重合的方式相结合。
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