合肥晶合集成电路股份有限公司李海峰获国家专利权
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龙图腾网获悉合肥晶合集成电路股份有限公司申请的专利光刻方法及光刻机获国家发明授权专利权,本发明授权专利权由国家知识产权局授予,授权公告号为:CN120949523B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-12-16发布的发明授权授权公告中获悉:该发明授权的专利申请号/专利号为:202511489132.X,技术领域涉及:G03F7/20;该发明授权光刻方法及光刻机是由李海峰;赵志豪;沈俊明;古哲安;吴建宏设计研发完成,并于2025-10-17向国家知识产权局提交的专利申请。
本光刻方法及光刻机在说明书摘要公布了:本申请公开了光刻方法及光刻机,所述光刻方法包括:获取晶圆表面的平整度信息以及光罩的弯曲信息;根据所述平整度信息确定所述晶圆表面不同位置处于所述光罩无弯曲情况下光罩图案的聚焦平面时所述晶圆的位置信息;基于所述弯曲信息对所述位置信息进行补偿,得到新位置信息;利用所述光罩对处于所述新位置信息所示意位置上的所述晶圆进行光刻。本申请能够对光罩弯曲进行准确补偿,从而消除光罩弯曲对曝光单元内关键尺寸均一性和对准偏差补值均一性的影响。
本发明授权光刻方法及光刻机在权利要求书中公布了:1.一种光刻方法,包括: 获取晶圆表面的平整度信息以及光罩的弯曲信息; 根据所述平整度信息,计算在光罩无弯曲情况下,为使光罩图案在像方形成的聚焦平面与晶圆表面各局部区域重合而需施加于晶圆的轴向补偿量,并将该轴向补偿量作为晶圆的位置信息; 基于所述弯曲信息对所述位置信息进行补偿,得到新位置信息; 利用所述光罩对处于所述新位置信息所示意位置上的所述晶圆进行光刻。
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