浙江晶盛光子科技有限公司王树林获国家专利权
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龙图腾网获悉浙江晶盛光子科技有限公司申请的专利化学气相沉积设备获国家实用新型专利权,本实用新型专利权由国家知识产权局授予,授权公告号为:CN223674734U 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-12-16发布的实用新型授权公告中获悉:该实用新型的专利申请号/专利号为:202520102298.0,技术领域涉及:C23C16/44;该实用新型化学气相沉积设备是由王树林;李鹏飞;袁运辉;李阳阳设计研发完成,并于2025-01-16向国家知识产权局提交的专利申请。
本化学气相沉积设备在说明书摘要公布了:本实用新型属于半导体加工技术领域,公开了化学气相沉积设备,包括腔室组件和支撑组件,腔室组件内具有反应腔,反应腔用于容置载具,支撑组件设置于反应腔内且用于提供支撑,腔室组件包括石英管、分别封盖于石英管两端的炉门和后端盖,以及用于连接石英管和炉门、石英管和后端盖的法兰结构,腔室组件上和或支撑组件上朝向反应腔的金属表面均涂覆有保护镀层,保护镀层为高镍磷层。本实用新型的化学气相沉积设备能减少反应腔内产生的氯气对金属表面的腐蚀以及待镀膜硅片被污染的风险,同时降低化学气相沉积设备的组装难度和生产成本。
本实用新型化学气相沉积设备在权利要求书中公布了:1.化学气相沉积设备,其特征在于,包括腔室组件1和支撑组件2,所述腔室组件1内具有反应腔11,所述反应腔11用于容置载具,所述支撑组件2设置于所述反应腔11内且用于提供支撑,所述腔室组件1包括石英管12、分别封盖于所述石英管12两端的炉门13和后端盖14,以及用于连接所述石英管12和所述炉门13、所述石英管12和所述后端盖14的法兰结构15,所述腔室组件1上和或所述支撑组件2上朝向所述反应腔11的金属表面均涂覆有保护镀层,所述保护镀层为高镍磷层。
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