中硼(厦门)医疗器械有限公司陈韦霖获国家专利权
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龙图腾网获悉中硼(厦门)医疗器械有限公司申请的专利中子捕获治疗系统获国家发明授权专利权,本发明授权专利权由国家知识产权局授予,授权公告号为:CN113491840B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-12-19发布的发明授权授权公告中获悉:该发明授权的专利申请号/专利号为:202010190073.7,技术领域涉及:A61N5/10;该发明授权中子捕获治疗系统是由陈韦霖;伍盛煜设计研发完成,并于2020-03-18向国家知识产权局提交的专利申请。
本中子捕获治疗系统在说明书摘要公布了:本发明提供一种中子捕获治疗系统,可以避免或降低在屏蔽壁或地板由组件或元件穿过的地方造成的中子及其他辐射线的泄露。本发明的中子捕获治疗系统,包括加速器、射束传输部、中子束生成部,所述加速器对带电粒子进行加速产生带电粒子束,所述射束传输部将所述加速器产生的带电粒子束传输至所述中子束生成部,所述中子束生成部产生治疗用中子束,所述中子捕获治疗系统还包括容纳所述加速器、射束传输部、中子束生成部的屏蔽壁,在所述屏蔽壁朝向射束传输方向上游的一侧由所述射束传输部或所述中子束生成部穿过的部位设置屏蔽体,所述屏蔽体为可移动的并具有第一位置和第二位置,在所述第一位置,形成所述射束传输部穿过的容纳孔,在所述第二位置,所述容纳孔打开。
本发明授权中子捕获治疗系统在权利要求书中公布了:1.一种中子捕获治疗系统,包括加速器、射束传输部、中子束生成部,所述加速器对带电粒子进行加速产生带电粒子束,所述射束传输部将所述加速器产生的带电粒子束传输至所述中子束生成部,所述中子束生成部产生治疗用中子束,其特征在于,所述中子捕获治疗系统还包括带电粒子束生成室,照射室,以及容纳所述加速器、射束传输部、中子束生成部的屏蔽壁,所述带电粒子束生成室容纳所述加速器和至少部分所述射束传输部,患者在所述照射室中进行中子束照射的治疗,所述屏蔽壁包括所述照射室和所述带电粒子束生成室的分隔壁,所述中子束生成部的至少一部分埋入于所述分隔壁,在所述分隔壁朝向射束传输方向上游的一侧由所述射束传输部或所述中子束生成部穿过的部位设置屏蔽体,所述屏蔽体为可移动的并具有第一位置和第二位置,在所述第一位置,形成所述射束传输部穿过的容纳孔,在所述第二位置,所述容纳孔打开,所述分隔壁靠近所述照射室的一侧设置至少部分容纳所述中子束生成部及用于支撑所述中子束生成部的支撑模块的容纳槽,所述中子束生成部包括靶材和射束整形体,所述支撑模块设置在所述分隔壁内,支撑结构模块化,且所述射束整形体由所述支撑模块支撑,以使得所述射束整形体的位置可调整。
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