TCL华星光电技术有限公司何武获国家专利权
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龙图腾网获悉TCL华星光电技术有限公司申请的专利曝光机、挡板位置分析方法及装置获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN114280885B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-12-19发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202111621412.3，技术领域涉及：G03F1/42；该发明授权曝光机、挡板位置分析方法及装置是由何武设计研发完成，并于2021-12-28向国家知识产权局提交的专利申请。
本曝光机、挡板位置分析方法及装置在说明书摘要公布了：本申请公开了一种曝光机、挡板位置分析方法及装置。曝光机包括：玻璃基板；挡板，与所述玻璃基板相对设置；掩膜版，设于所述挡板和所述基板之间，所述掩膜版包括曝光区、非曝光区以及标尺，所述标尺包括尺身和设于所述尺身的刻度，所述刻度的刻度参考线与所述曝光区和所述非曝光区的分界线重合，所述刻度的测量范围大于所述挡板的衍射区域的尺寸，所述挡板用于遮挡所述非曝光区，且所述挡板的边缘与所述分界线重合。本申请实施例中设置标尺对挡板位置精度进行监控，如果发现异常可以及时修正，避免不良品产出后报废。
本发明授权曝光机、挡板位置分析方法及装置在权利要求书中公布了：1.一种曝光机，其特征在于，包括： 玻璃基板；所述玻璃基板为彩色滤光片基板，并采用正性光刻胶； 挡板，与所述玻璃基板相对设置； 掩膜版，设于所述挡板和所述基板之间，所述掩膜版包括曝光区、非曝光区以及多个标尺，所述标尺包括尺身和设于所述尺身的刻度，所述刻度的刻度参考线与所述曝光区和所述非曝光区的分界线重合，所述刻度的测量范围大于所述挡板的衍射区域的尺寸，所述挡板用于遮挡所述非曝光区，且所述挡板的边缘与所述分界线重合；所述掩膜版基于多个所述标尺的投影信息进行分析监控。
如需购买、转让、实施、许可或投资类似专利技术，可联系本专利的申请人或专利权人TCL华星光电技术有限公司，其通讯地址为：518132 广东省深圳市光明新区塘明大道9-2号；或者联系龙图腾网官方客服，联系龙图腾网可拨打电话0551-65771310或微信搜索“龙图腾网”。
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