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华虹半导体(无锡)有限公司;上海华虹宏力半导体制造有限公司吴萍获国家专利权

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龙图腾网获悉华虹半导体(无锡)有限公司;上海华虹宏力半导体制造有限公司申请的专利OPC程序的修正方法、系统、存储介质及电子设备获国家发明授权专利权,本发明授权专利权由国家知识产权局授予,授权公告号为:CN114355722B

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-12-19发布的发明授权授权公告中获悉:该发明授权的专利申请号/专利号为:202210009748.2,技术领域涉及:G03F1/36;该发明授权OPC程序的修正方法、系统、存储介质及电子设备是由吴萍;金晓亮;冯佳计设计研发完成,并于2022-01-05向国家知识产权局提交的专利申请。

OPC程序的修正方法、系统、存储介质及电子设备在说明书摘要公布了:一种OPC程序的修正方法、系统、存储介质及电子设备。所述方法包括:获取待修正OPC程序;接收断点位置信息,并在所述待修正OPC程序中,与所述断点位置信息对应的位置处设置断点;接收运行控制指令,运行所述断点以前预设行数的所述待修正OPC程序,并从所运行的OPC程序中获取图形变量的相关信息,以基于所述图形变量的相关信息进行图形显示,所显示的图像与所述待修正OPC程序的断点位置相关。采用上述方案,可以缩短OPC程序修正所需时间。

本发明授权OPC程序的修正方法、系统、存储介质及电子设备在权利要求书中公布了:1.一种OPC程序的修正方法,其特征在于,包括: 获取待修正OPC程序;所述待修正OPC程序是用于对设计的光掩模图形进行修正时所使用的程序; 接收断点位置信息,并在所述待修正OPC程序中,与所述断点位置信息对应的位置处设置断点; 接收运行控制指令,运行所述断点以前预设行数的所述待修正OPC程序,并从所运行的OPC程序中获取图形变量的相关信息; 基于所述图形变量的相关信息进行图形显示,所显示的图像与所述待修正OPC程序的断点位置相关;所述基于所述图形变量的相关信息进行图形显示,包括:在同一显示界面上显示不同图形变量对应的图形,并在显示界面上标识不同图形对应的图形变量名称及所在行号; 比较所显示的图像的变化,并根据图像的变化判断所述断点以前的待修正OPC程序是否出错,以及定位出错的待修正OPC程序的行号,以在出错时对所述断点以前的待修正OPC程序进行修正; 其中,所述运行所述断点以前预设行数的所述待修正OPC程序,并从所运行的OPC程序中获取图形变量的相关信息,包括:逐行运行所述断点以前预设行数的所述待修正OPC程序,并判断所运行的每行OPC程序中生成变量的类型;当所述生成变量的类型为图形变量时,获取所述图形变量的相关信息。

如需购买、转让、实施、许可或投资类似专利技术,可联系本专利的申请人或专利权人华虹半导体(无锡)有限公司;上海华虹宏力半导体制造有限公司,其通讯地址为:214028 江苏省无锡市新吴区新洲路30号;或者联系龙图腾网官方客服,联系龙图腾网可拨打电话0551-65771310或微信搜索“龙图腾网”。

以上内容由龙图腾AI智能生成。

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