精工爱普生株式会社宫坂笃史获国家专利权
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龙图腾网获悉精工爱普生株式会社申请的专利记录装置及记录方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN113829752B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-12-23发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202110693932.9，技术领域涉及：B41J2/01；该发明授权记录装置及记录方法是由宫坂笃史设计研发完成，并于2021-06-22向国家知识产权局提交的专利申请。
本记录装置及记录方法在说明书摘要公布了：本申请涉及记录装置及记录方法，抑制伴随电晕照射而发生的自由基成为喷出不良的原因。记录装置1具备：送出部2，支承卷状的被记录介质M并送出被记录介质M；喷头5，向从送出部2送出的被记录介质M的表面喷出油墨以形成图像；电晕照射部6，配置于被记录介质M的输送路径中的送出部2与喷头5之间，并通过进行电晕照射对表面进行改性；以及输送路径长度变更部20，配置在输送路径中的电晕照射部6与喷头5之间，且能够变更输送路径的长度。
本发明授权记录装置及记录方法在权利要求书中公布了：1.一种记录装置，其特征在于，具备： 送出部，支承卷状的被记录介质，并送出所述被记录介质； 喷头，向从所述送出部送出的所述被记录介质的表面喷出油墨以形成图像； 电晕照射部，配置在所述被记录介质的输送路径中的所述送出部与所述喷头之间，并通过进行电晕照射来对所述表面进行改性；以及 输送路径长度变更部，配置在所述输送路径中的所述电晕照射部与所述喷头之间，且能够变更所述输送路径的长度， 根据由电晕照射产生的自由基的失活时间来变更所述输送路径的长度。
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2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
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