浙江大学朱铁军获国家专利权
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龙图腾网获悉浙江大学申请的专利一种碲化铋基热电器件的界面阻挡层及其制备方法和应用获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN119789762B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-12-26发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202411900433.2，技术领域涉及：H10N10/852；该发明授权一种碲化铋基热电器件的界面阻挡层及其制备方法和应用是由朱铁军;武云笑;付晨光设计研发完成，并于2024-12-23向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种碲化铋基热电器件的界面阻挡层及其制备方法和应用在说明书摘要公布了：本发明公开一种碲化铋基热电器件的界面阻挡层及其制备方法和应用，所述界面阻挡层为Ni‑Co‑W合金镀层，其中Ni元素摩尔占比为70‑93％，Co元素摩尔占比为6‑25％，W元素摩尔占比为1‑5％。在N型或P型碲化铋基材料上通过电化学沉积制备而成。本发明提供的Ni‑Co‑W界面阻挡层具有良好的热稳定性，能够提高热电器件的使用寿命，长时间高温环境下，可有效抑制界面阻挡层和热电材料之间的反应，从而降低热电器件在高温服役下的界面电阻，提高器件的输出性能。
本发明授权一种碲化铋基热电器件的界面阻挡层及其制备方法和应用在权利要求书中公布了：1.一种碲化铋基热电器件的界面阻挡层，其特征在于，所述界面阻挡层为Ni-Co-W合金镀层，其中Ni元素摩尔占比为70-93％，Co元素摩尔占比为6-25％，W元素摩尔占比为1-5％。
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