西安思摩威新材料有限公司王艳茹获国家专利权
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龙图腾网获悉西安思摩威新材料有限公司申请的专利一种无底切的高折射率负性OC光阻、光固化图案的制备方法和应用获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN119846903B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-12-26发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202411993429.5，技术领域涉及：G03F7/004；该发明授权一种无底切的高折射率负性OC光阻、光固化图案的制备方法和应用是由王艳茹;雷霆;王娜;伊婷婷设计研发完成，并于2024-12-31向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种无底切的高折射率负性OC光阻、光固化图案的制备方法和应用在说明书摘要公布了：本发明属于高分子材料技术领域，涉及无底切的高折射率负性OC光阻、光固化图案的制备方法和应用。该高折射率负性OC光阻按重量份数计，包括如下原料：高折射率纳米粒子10～35份，光可固化单体1～10份，脂环族环氧单体1～10份，光引发剂1.5～4份，表面活性剂0.01～0.5份，溶剂25～75份。通过在配方中添加脂肪族环氧单体代替丙烯酸单体，能与光可固化单体和高折射纳米粒子发生化学键合反应，在分子间形成网络结构；脂肪族环氧单体还可与基材表面的硅醇基形成氢键相互作用，从而提高膜层的附着力，同时提高膜层的耐热性能，通过增加附着力，有效抵御方形岛图案的内应力而导致的底切，提高了图案的完整性。
本发明授权一种无底切的高折射率负性OC光阻、光固化图案的制备方法和应用在权利要求书中公布了：1.一种无底切的高折射率负性OC光阻，其特征在于，按重量份数计，包括如下原料：高折射率纳米粒子10~35份，光可固化单体1~10份，脂环族环氧单体1~10份，光引发剂1.5~5份，表面活性剂0.01~0.5份，溶剂25~75份；所述脂环族环氧单体为含有不饱和双键和环氧基的脂环族环氧单体；所述脂环族环氧单体为下式1至式5所示结构中的至少一种： 式1式2 式3式4 式5； 所述高折射率纳米粒子选自SnO2、In2O3、TiO2、ZrO2、Al2O3、ZnO中的一种或两种，所述高折射率纳米粒子的中值粒径为5～22nm，折射率为1.8～2.0； 所述光可固化单体包括单官能甲基丙烯酸酯单体与双官能甲基丙烯酸酯单体，所述单官能甲基丙烯酸酯单体、双官能甲基丙烯酸酯单体、脂环族环氧单体的质量比为2~3：3~5：5~8。
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