天合光能股份有限公司刘洲获国家专利权
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龙图腾网获悉天合光能股份有限公司申请的专利一种钙钛矿薄膜稳定性和钙钛矿薄膜界面反应的测试方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN119881215B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-12-26发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202510071786.4，技术领域涉及：G01N33/00；该发明授权一种钙钛矿薄膜稳定性和钙钛矿薄膜界面反应的测试方法是由刘洲设计研发完成，并于2025-01-16向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种钙钛矿薄膜稳定性和钙钛矿薄膜界面反应的测试方法在说明书摘要公布了：本发明属于光伏领域，具体涉及一种钙钛矿薄膜稳定性和钙钛矿薄膜界面反应的测试方法。本发明钙钛矿薄膜稳定性的测试方法包括：对表面完全被氧化物层包覆的钙钛矿薄膜进行稳定性表征。本发明的测试方法可以剥离界面与挥发的影响，对钙钛矿薄膜自身稳定性进行测试，进而快速高效筛选出稳定的钙钛矿结构物质。
本发明授权一种钙钛矿薄膜稳定性和钙钛矿薄膜界面反应的测试方法在权利要求书中公布了：1.一种钙钛矿薄膜稳定性的测试方法，其特征在于，所述测试方法包括对表面完全被氧化物层包覆的钙钛矿薄膜进行稳定性表征； 所述表面完全被氧化物层包覆的钙钛矿薄膜的制备方法包括：先沉积氧化物层，在氧化物层上沉积钙钛矿薄膜，再在钙钛矿薄膜上沉积氧化物层，得到表面完全被氧化物层包覆的钙钛矿薄膜； 所述表面完全被氧化物层包覆的钙钛矿薄膜的底部具有衬底，所述衬底为粗糙玻璃、平整玻璃、硅片、云母片、石英、金属箔片或塑料； 所述氧化物层为氧化硅和或氧化铝。
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