闽都创新实验室朱浩淼获国家专利权
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龙图腾网获悉闽都创新实验室申请的专利一种钙钛矿量子点/PVDF发光薄膜及其制备方法和应用获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN119899657B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-12-26发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202510061778.1，技术领域涉及：C09K11/02；该发明授权一种钙钛矿量子点/PVDF发光薄膜及其制备方法和应用是由朱浩淼;陈德建;许佳敏设计研发完成，并于2025-01-15向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种钙钛矿量子点/PVDF发光薄膜及其制备方法和应用在说明书摘要公布了：本发明公开了一种钙钛矿量子点PVDF发光薄膜及其制备方法和应用，涉及光电子材料领域。该钙钛矿量子点PVDF发光薄膜的制备方法是将钙钛矿量子点PVDF复合膜进行浸泡处理，所述浸泡处理是将所述钙钛矿量子点PVDF复合膜在pH值大于7的碱溶液中浸泡处理。本发明通过碱溶液的浸泡处理使PVDF发生脱HF反应，形成共轭双键结构，并利用F离子原位钝化钙钛矿量子点表面缺陷，显著提升了薄膜的发光效率和长期稳定性。
本发明授权一种钙钛矿量子点/PVDF发光薄膜及其制备方法和应用在权利要求书中公布了：1.一种钙钛矿量子点PVDF发光薄膜的制备方法，其特征在于：所述制备方法是将钙钛矿量子点PVDF复合膜进行浸泡处理，所述浸泡处理是将所述钙钛矿量子点PVDF复合膜在溶液中浸泡处理；所述溶液的OH-的摩尔浓度为0.1M至20M；所述浸泡处理的处理时间为30分钟至5小时；所述浸泡处理的温度为20℃至100℃；所述制备方法还包括对经过浸泡处理的复合膜清洗干燥的步骤；在清洗干燥之后，所述制备方法还包括对所述复合膜退火处理的步骤，退火温度为20℃至150℃，退火时间为10分钟至2小时。
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