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龙图腾网获悉北京创思镀膜有限公司申请的专利光学相位延迟反射膜及其镀制方法、卡具获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN120143328B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-12-26发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202510216295.4，技术领域涉及：G02B5/08；该发明授权光学相位延迟反射膜及其镀制方法、卡具是由曾强设计研发完成，并于2025-02-26向国家知识产权局提交的专利申请。

本光学相位延迟反射膜及其镀制方法、卡具在说明书摘要公布了：本发明提供一种光学相位延迟反射膜及其镀制方法、卡具，该光学相位延迟反射膜由镀制在反射相位延迟镜上的金属Ag膜层、SiO2膜层、Ti3O5膜层和Al2O3膜层组成，通过利用Al2O3的中折射率特点、Ag的反射特点、Ti3O5的高折射率特点与SiO2的低折射率特点，使得光学相位延迟反射膜的反射率变高，使线偏振光以45°角入射到镀制有光学相位延迟反射膜的反射相位延迟镜表面上时，可以确保线偏振光叠加后的光波具有预期的偏振特性，从而提高测量精度和系统的稳定性。

本发明授权光学相位延迟反射膜及其镀制方法、卡具在权利要求书中公布了：1.一种光学相位延迟反射膜的镀制方法，其特征在于，包括： 使用霍尔离子源对反射相位延迟镜的基底进行刻蚀清洁10-15分钟，且保持本底真空度低于2*10-3帕斯卡，沉积温度为70-100摄氏度，恒温10-20分钟； 在所述反射相位延迟镜的表面镀制光学相位延迟反射膜，所述光学相位延迟反射膜依照距离所述反射相位延迟镜从近至远的顺序，依次为第一三氧化二铝膜层、金属银膜层、第二三氧化二铝膜层、第一二氧化硅膜层、第一五氧化三钛膜层、第二二氧化硅膜层、第二五氧化三钛膜层和第三二氧化硅膜层； 所述在所述反射相位延迟镜的表面镀制光学相位延迟反射膜之前，还包括： 获取所述光学相位延迟反射膜中各膜层的镀制比例参数和所述反射相位延迟镜对应的镀制目标； 根据所述镀制目标和所述光学相位延迟反射膜中各膜层的镀制比例参数，分别确定所述光学相位延迟反射膜中各三氧化二铝膜层的目标镀制厚度、所述金属银膜层的目标镀制厚度、各二氧化硅膜层的目标镀制厚度和各五氧化三钛膜层的目标镀制厚度； 所述获取所述光学相位延迟反射膜中各膜层的镀制比例参数，包括： 获取与所述反射相位延迟镜相同基底材料的第一试验镜、第二试验镜、第三试验镜、第四试验镜、第五试验镜和第六试验镜； 在所述第一试验镜表面镀制第一设定厚度的金属银膜层；在所述第二试验镜表面镀制第二设定厚度的五氧化三钛膜层；在所述第三试验镜表面使用离子源辅助蒸发的成膜方式，镀制第三设定厚度的三氧化二铝膜层；在所述第四试验镜表面不使用离子源辅助蒸发的成膜方式，镀制第四设定厚度的三氧化二铝膜层；在所述第五试验镜表面使用离子源辅助蒸发的成膜方式，镀制第五设定厚度的二氧化硅膜层；在所述第六试验镜表面不使用离子源辅助蒸发的成膜方式，镀制第六设定厚度的二氧化硅膜层； 对镀制后的第一试验镜、第二试验镜、第三试验镜、第四试验镜、第五试验镜和第六试验镜，分别进行模拟分析，确定所述第一试验镜上金属银膜层的模拟镀制厚度、所述第二试验镜上五氧化三钛膜层的模拟镀制厚度、所述第三试验镜上三氧化二铝膜层的模拟镀制厚度、所述第四试验镜上三氧化二铝膜层的模拟镀制厚度、所述第五试验镜上二氧化硅膜层的模拟镀制厚度和所述第六试验镜上二氧化硅膜层的模拟镀制厚度； 将所述第一设定厚度与所述第一试验镜上金属银膜层的模拟镀制厚度的比值，确定为所述金属银膜层对应的镀制比例参数；将所述第二设定厚度与所述第二试验镜上五氧化三钛膜层的模拟镀制厚度的比值，确定为所述五氧化三钛膜层对应的镀制比例参数；将所述第三设定厚度与所述第三试验镜上三氧化二铝膜层的模拟镀制厚度的比值，确定为使用离子源辅助蒸发的成膜方式下所述三氧化二铝膜层对应的镀制比例参数；将所述第四设定厚度与所述第四试验镜上三氧化二铝膜层的模拟镀制厚度的比值，确定为不使用离子源辅助蒸发的成膜方式下所述三氧化二铝膜层对应的镀制比例参数；将所述第五设定厚度与所述第五试验镜上二氧化硅膜层的模拟镀制厚度的比值，确定为使用离子源辅助蒸发的成膜方式下所述二氧化硅膜层对应的镀制比例参数；将所述第六设定厚度与所述第六试验镜上二氧化硅膜层的模拟镀制厚度的比值，确定为不使用离子源辅助蒸发的成膜方式下所述二氧化硅膜层对应的镀制比例参数； 所述根据所述镀制目标和所述光学相位延迟反射膜中各膜层的镀制比例参数，分别确定所述光学相位延迟反射膜中各所述三氧化二铝膜层的目标镀制厚度、所述金属银膜层的目标镀制厚度、各所述二氧化硅膜层的目标镀制厚度和各所述五氧化三钛膜层的目标镀制厚度，包括： 基于所述镀制目标进行模拟分析，确定所述光学相位延迟反射膜中各膜层的设计镀制厚度； 将所述第一三氧化二铝膜层的设计镀制厚度，与使用离子源辅助蒸发的成膜方式下所述三氧化二铝膜层对应的镀制比例参数相乘，得到所述第一三氧化二铝膜层的目标镀制厚度； 将所述金属银膜层的设计镀制厚度，与所述金属银膜层对应的镀制比例参数相乘，得到所述金属银膜层的目标镀制厚度； 将所述第二三氧化二铝膜层的设计镀制厚度，与不使用离子源辅助蒸发的成膜方式下所述三氧化二铝膜层对应的镀制比例参数相乘，得到所述第二三氧化二铝膜层的目标镀制厚度； 将所述第一二氧化硅膜层的设计镀制厚度，与不使用离子源辅助蒸发的成膜方式下所述二氧化硅膜层对应的镀制比例参数相乘，得到所述第一二氧化硅膜层的目标镀制厚度； 将所述第一五氧化三钛膜层的设计镀制厚度，与所述五氧化三钛膜层对应的镀制比例参数相乘，得到所述第一五氧化三钛膜层的目标镀制厚度； 将所述第二二氧化硅膜层的设计镀制厚度，与使用离子源辅助蒸发的成膜方式下所述二氧化硅膜层对应的镀制比例参数相乘，得到所述第二二氧化硅膜层的目标镀制厚度； 将所述第二五氧化三钛膜层的设计镀制厚度，与所述五氧化三钛膜层对应的镀制比例参数相乘，得到所述第二五氧化三钛膜层的目标镀制厚度； 将所述第三二氧化硅膜层的设计镀制厚度，与使用离子源辅助蒸发的成膜方式下所述二氧化硅膜层对应的镀制比例参数相乘，得到所述第三二氧化硅膜层的目标镀制厚度。

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