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龙图腾网获悉芜湖长信科技股份有限公司申请的专利一种抗眩玻璃制备方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN120208552B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-12-26发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202510382265.0，技术领域涉及：C03C15/00；该发明授权一种抗眩玻璃制备方法是由郑建军;钟素文;余志辉;李小飞;徐松;顾宇设计研发完成，并于2025-03-28向国家知识产权局提交的专利申请。

本一种抗眩玻璃制备方法在说明书摘要公布了：本发明公开了一种抗眩玻璃制备方法，包括以下步骤：玻璃基板表面清理处理；在玻璃基板表面上镀膜层；在膜层上涂布光刻胶；进行曝光、显影以及膜层刻蚀处理；通过干式蚀刻，定向蚀刻玻璃的纵向深度，再通过湿法蚀刻方式，同时蚀刻纵向和横向，取得一定的深宽比，增加抗眩面积；或者，先通过湿法对玻璃表面进行初步的形貌构建，随后利用干法刻蚀在特定区域实现精确的深度控制与特征塑造。能够有效提升抗眩光性能并接近蒙砂所拥有的无序扩散效果；表面纹理分布更为均匀，克服了传统蒙砂工艺中闪点不一、表面微结构难以精确控制的缺陷；本发明采用蚀刻工艺直接在玻璃基体上形成微观结构，能够满足各类严苛使用环境下的可靠性要求。

本发明授权一种抗眩玻璃制备方法在权利要求书中公布了：1.一种抗眩玻璃制备方法，其特征在于：包括以下步骤： 步骤1：玻璃基板表面清理处理； 步骤2：在玻璃基板表面上镀膜层； 步骤3：在膜层上涂布光刻胶； 步骤4：进行曝光、显影以及膜层刻蚀处理； 步骤5：通过干式蚀刻，定向蚀刻玻璃的纵向深度，再通过湿法蚀刻方式，同时蚀刻纵向和横向，取得一定的深宽比，增加抗眩面积；或者，先通过湿法对玻璃表面进行初步的形貌构建，随后利用干法刻蚀在特定区域实现精确的深度控制与特征塑造； 其中， 所述步骤5中的工艺流程为：干法刻蚀玻璃→退光刻胶→湿法刻蚀玻璃1→退膜层→湿法刻蚀玻璃2； 或者，干法刻蚀玻璃→湿法刻蚀玻璃1→退光刻胶→退膜层→湿法刻蚀玻璃2；或者，退光刻胶→干法刻蚀玻璃→湿法刻蚀玻璃1→退膜层→湿法刻蚀玻璃2；或者，退光刻胶→湿法刻蚀玻璃1→干法刻蚀玻璃→退膜层→湿法刻蚀玻璃2；或者，湿法刻蚀玻璃1→退光刻胶→干法刻蚀玻璃→退膜层→湿法刻蚀玻璃2；或者，湿法刻蚀玻璃1→干法刻蚀玻璃→退光刻胶→退膜层→湿法刻蚀玻璃2； 所述步骤2中，膜层的厚度范围为50-3000A，膜层通过真空镀膜或蒸镀方式生成；所述步骤3中，光刻胶厚度范围0.5-20μm；涂布方式采用狭缝式涂布，涂布速度控制在10-200mms之间，喷压力控制在0.03-0.98MPa；涂布完成后，进行软烘处理，软烘温度控制在50-200℃，时间为30-300秒； 所述步骤4中，曝光工序中，根据批量及分辨率需求选用接触式、近接式或投影式曝光机；曝光能量在50～500mJcm²之间； 所述步骤4中，显影时间在30～90s，并在20～30℃范围内维持恒温，显影液的电导率应保持在1~80mScm的范围内；显影完成后，进行后烘处理，温度范围为50～300℃、持续时长1-20min；膜层刻蚀之前需要对光刻胶图形进行固化处理，在50～500℃温度范围内进行热固化或UV固化，时长1～60min，以增强光刻胶图案的耐蚀性和机械强度，防止刻蚀过程中的形变或脱胶； 所述步骤5中，湿法蚀刻阶段，利用化学试剂对微结构进行全方位蚀刻，实现了从单纯的纵向凹陷向复合立体结构的关键转变，湿法蚀刻在横向和纵向同时进行的蚀刻宽度和深度，提高深宽比来增强抗眩光效果。

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