南通宇华新材料科技有限公司焦露萍获国家专利权
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龙图腾网获悉南通宇华新材料科技有限公司申请的专利一种高容量碳钛复合电极箔及其制造方法获国家发明授权专利权,本发明授权专利权由国家知识产权局授予,授权公告号为:CN120497052B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-12-26发布的发明授权授权公告中获悉:该发明授权的专利申请号/专利号为:202510843137.1,技术领域涉及:H01G11/22;该发明授权一种高容量碳钛复合电极箔及其制造方法是由焦露萍;陈秀娥设计研发完成,并于2025-06-23向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种高容量碳钛复合电极箔及其制造方法在说明书摘要公布了:本申请涉及电极箔制造技术领域,特别涉及一种高容量碳钛复合电极箔及其制造方法。所述制造方法包括以下步骤:S1、预处理:将铝箔浸渍于10%的硫酸与0.5%的氢氟酸的混合液中30s后取出,完成预处理步骤;S2、微蚀刻:将蚀刻液加热至45~55℃,于超声波下使用蚀刻液进行微蚀刻,于铝箔上形成孔径为0.5~2μm的微孔,蚀刻完成后使用去离子水洗涤,于80℃烘干,得到微蚀刻铝箔;S3、碳钛活性层构建。本申请通过提供一种高容量碳钛复合电极箔及其制造方法,以解决相关技术中钛与碳材料的热膨胀系数差异较大,易导致界面应力集中,以及微蚀刻形成的多孔结构在循环应力下易引发钛基板开裂的问题。
本发明授权一种高容量碳钛复合电极箔及其制造方法在权利要求书中公布了:1.一种高容量碳钛复合电极箔的制造方法,其特征在于,其包括以下步骤: S1、预处理:将铝箔浸渍于10%的硫酸与0.5%的氢氟酸的混合液中30s后取出,完成预处理步骤; S2、微蚀刻:将蚀刻液加热至45~55℃,于超声波下使用蚀刻液进行微蚀刻,于铝箔上形成孔径为0.5~2μm的微孔,蚀刻完成后使用去离子水洗涤,于80℃烘干,得到微蚀刻铝箔,蚀刻时间8~12min,喷淋压力为2~3kgcm2; S3、碳钛活性层构建: S301、底层构建: 使用氩气等离子体对微蚀刻铝箔刻蚀5min后,通入氩气和甲烷,将TiC纳米晶溅射至微蚀刻铝箔表面,得到TiC纳米晶底层,完成底层构建; S302、中间层构建: 将碳钛复合浆料涂覆至TiC纳米晶底层上,于80℃真空干燥12h,随后于300℃氮气气氛下固化1h,再于ArH2NH3混合气中以500℃保温2h,再于600℃的真空环境下保温1h,冷却后完成中间层构建,所述碳钛复合浆料涂覆厚度为12~60μm; S303、表层构建: 将S302得到的完成中间层构建后的电极箔浸入涂覆溶胶中,使用浸涂法进行涂覆,室温晾干30min,再于60℃干燥1h,随后于管式炉中升温至300℃,于氮气气氛下保温1h,继续升温至600℃,于氩气气氛中保温2h,冷却至室温后完成表层构建,得到高容量碳钛复合电极箔,其中涂覆厚度为5~10μm; 所述涂覆溶胶包括钛酸四丁酯、葡萄糖、尿素和乙醇,所述钛酸四丁酯、葡萄糖、尿素和乙醇的质量体积比为1g:2g:3g:10mL,所述涂覆溶胶的制造方法包括: 将葡萄糖、尿素和乙醇混合并搅拌溶解后,滴加钛酸四丁酯,继续搅拌30min后得到涂覆溶胶。
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