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龙图腾网获悉东方晶源微电子科技(北京)股份有限公司申请的专利芯片版图的修正方法、介质、产品及设备获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN120724951B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-12-26发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202510885481.7，技术领域涉及：G06F30/392；该发明授权芯片版图的修正方法、介质、产品及设备是由张生睿;俞宗强;施伟杰设计研发完成，并于2025-06-27向国家知识产权局提交的专利申请。

本芯片版图的修正方法、介质、产品及设备在说明书摘要公布了：本发明提供了一种芯片版图的修正方法、介质、产品及设备。其中上述方法包括：基于图形特征对芯片版图中的待优化版图图形进行分组，得到待优化的目标图形分组；利用目标图形分组对应的优化智能体对待优化版图图形进行优化得到优化版图图形，每个优化智能体与一组目标图形分组对应设置；对满足预期规格的优化版图图形进行汇总得到结果集；通过光罩产生模型对结果集中的版图图形进行调整得到每个版图图形对应的光罩数据，光罩产生模型用于将芯片版图对应的设计目标图形映射为光罩数据。此方法能够通过使用不同的优化智能体使其对应的版图图形均能够获得针对性优化，还将优化后的版图图形通过光罩产生模型转换为光罩数据，使其适配光刻工艺需求。

本发明授权芯片版图的修正方法、介质、产品及设备在权利要求书中公布了：1.一种芯片版图的修正方法，包括： 确定整个所述芯片版图对应的设计目标图形以及预期规格； 对整个所述芯片版图进行初步通用优化，得到初步通用优化结果； 在所述初步通用优化结果中存在不满足预期规格的版图图形的情况下，获取不满足所述预期规格的所述版图图形作为待优化版图图形； 基于图形特征对所述芯片版图中的所述待优化版图图形进行分组，从而得到待优化的目标图形分组； 利用所述目标图形分组对应的优化智能体对所述待优化版图图形进行优化得到优化版图图形，每个所述优化智能体与一组所述目标图形分组对应设置，并配置成基于对应目标图形分组的所述图形特征对该分组中的所述待优化版图图形进行优化； 对满足预期规格的所述优化版图图形进行汇总得到结果集； 通过光罩产生模型对所述结果集中的版图图形进行调整得到每个所述版图图形对应的光罩数据，所述光罩产生模型用于将所述芯片版图对应的设计目标图形映射为所述光罩数据。

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