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龙图腾网获悉吉林奥来德光电材料股份有限公司申请的专利一种杂环铱金属磷光掺杂材料及其制备方法和应用获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN120737131B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-12-26发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202511250458.7，技术领域涉及：C07F15/00；该发明授权一种杂环铱金属磷光掺杂材料及其制备方法和应用是由王辉;武卫东;巩鹏威;赵祥霖;王齐;费海山;巢健设计研发完成，并于2025-09-03向国家知识产权局提交的专利申请。

本一种杂环铱金属磷光掺杂材料及其制备方法和应用在说明书摘要公布了：本发明涉及有机合成和有机光电材料领域，公开了一种杂环铱金属磷光掺杂材料及其制备方法和应用。所述杂环铱金属磷光掺杂材料的结构如式I所示：。本发明提供的化合物可以作为发光层掺杂材料，通过在吡啶环上引入苯并硅锗杂环和萘环，然后与铱金属和二酮类单体反应制备得到铱金属磷光有机发光材料。由于该材料中的萘环拓宽了共轭骨架，硅锗杂环优化了能级匹配，同时由于苯环的刚性以及苯环和硅的稳定性，可以实现能级调控以及载流子传输优化，从而实现驱动电压的降低，发光效率的提升以及寿命的延长。

本发明授权一种杂环铱金属磷光掺杂材料及其制备方法和应用在权利要求书中公布了：1.一种杂环铱金属磷光掺杂材料，其特征在于，所述杂环铱金属磷光掺杂材料具有IrLa2Lb1的结构通式，如下： ； La配体为以下结构： 所述配体La中的X选自为Si或者Ge； 所述配体La中的R1~R4各自独立地选自氢、氘原子、卤素、羟基、氰基、硝基、氨基、巯基、取代或未取代的C1-C10烷基，取代或未取代的C6-C20的芳基，取代或未取代的C4-C12杂芳基，取代或未取代的C3-C7环烷基，取代或未取代的C1-C10烷氧基，取代或未取代的C2-C10烯烃基和炔烃基，取代或未取代的C3-C10杂环基，取代或未取代的C3-C10硅烷基，取代或未取代的C3-C10锗烷基，并且相邻取代基可以稠合形成如下基团：取代或未取代的环己基、取代或未取代的环己烯基、取代或未取代的苯基、取代或未取代的苯并呋喃基、取代或未取代的苯并噻吩基、取代或未取代的苯并环戊基、取代或未取代的苯并环氧己烷基、取代或未取代的苯并环己烷基；杂原子为O、S、N、P、B、Si和Ge中的一种或多种的组合； R1～R4位置的取代基相同或不同；R1～R4取代基的位置为所在苯环的任意位置；R1取代基数量为2，R3取代基的数量为1，R2和R4取代基的数量为0～4； 所述配体Lb的结构式如下所示： ； 其中，Ra～Rc各自独立地选自氢、氘原子、卤素、氰基、取代或未取代的C1-C20烷基，取代或未取代的C3-C20环烷基； 所述“取代或未取代”中的取代是指取代基，即取代基为氘、甲基、乙基、丙基、异丙基、叔丁基、2-甲基丙基、2,2-二甲基丙基、苯基、萘基、芴基、二联苯基、三联苯基、环丙烷、环丁烷、环戊烷、环己烷、环庚烷、乙烯基、乙炔基、氧杂环戊烷、氧杂环己烷、四氢呋喃基、苯并呋喃基、苯并噻吩基、咔唑基、氰基、磺酸基、卤素、三甲基硅基以及三甲基锗基。

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