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龙图腾网获悉中国计量大学申请的专利一种消除多次反射的复合双曲面聚光器优化方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN120995726B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-12-26发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202511508676.6，技术领域涉及：G06F30/20；该发明授权一种消除多次反射的复合双曲面聚光器优化方法是由江佳琦;张高明;吴健;徐志鹏;周彬设计研发完成，并于2025-10-22向国家知识产权局提交的专利申请。

本一种消除多次反射的复合双曲面聚光器优化方法在说明书摘要公布了：本发明涉及聚光器技术领域，具体涉及一种消除多次反射的复合双曲面聚光器优化方法。方法包括以下步骤：S1，根据CHC双曲面的光线追踪结果，确定引发多次反射的双曲面部分和仅存在单次反射的双曲面部分；S2，截除引发多次反射的双曲面部分，并消除多次反射；S3，获取截短CHC；S4，通过求解多个方程得出截短后聚光器参数；S5，输出两种聚光器在不同太阳入射角情况下的光学效率和辐照非均匀度。本发明提供一种消除多次反射的复合双曲面聚光器优化方法，减少光线在聚光器中的反射次数，提高聚光器的光学效率，保持良好的辐照均匀度。

本发明授权一种消除多次反射的复合双曲面聚光器优化方法在权利要求书中公布了：1.一种消除多次反射的复合双曲面聚光器优化方法，其特征在于，包括以下步骤： S1，根据CHC双曲面的光线追踪结果，确定引发多次反射的双曲面部分和仅存在单次反射的双曲面部分； S2，截除引发多次反射的双曲面部分，并消除多次反射； S3，以x轴为横坐标、y轴为纵坐标绘制原始CHC示意图，确定发生单次反射与多次反射的临界点N和临界点M，所述临界点N和临界点M相互对称，其中，当光线由K点以与y轴平行的方向照射，经反射镜单次反射到点N时，KN与y轴的夹角为最大接受半角；沿MN虚线将原始CHC截短，得到只发生单次反射的聚光器，获取截短CHC； S4，根据点N到y轴的距离，聚光比CR，联立多个方程求解截短后聚光器参数；所述多个方程包括未截短的双曲线方程、截短后的双曲线方程、基于三角形相似原理的方程以及截短后聚光器的聚光比方程，通过求解多个方程得出截短后聚光器参数； S5，将同种聚光比下的原始CHC和截短CHC分别构建3D物理模型，将3D模型导入TracePro软件，输入相同的出光口宽度、太阳辐照接收面，输入不同的聚光器高度、聚光镜面面积、弧长，输出两种聚光器在不同太阳入射角情况下的光学效率和辐照非均匀度； 所述最大接收半角的计算公式为： ； 其中，θ为KN与y轴的夹角为最大接受半角，C为聚光比； 所述截短后聚光器参数包括横半轴长a，点L与点N到x轴的距离差，点N与点P到x轴的距离差，焦点距离中心的距离c； 所述未截短的双曲线方程为； 所述截短后的双曲线方程为； 所述基于三角形相似原理的方程为； 所述截短后聚光器的聚光比方程为； 其中，a为横半轴长，为点N到y轴的距离，c为焦点距离中心的距离，为点L与点N到x轴的距离差，为点N与点P到x轴的距离差，CR为截短后聚光器的聚光比。

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