上海微世半导体有限公司丁波获国家专利权
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龙图腾网获悉上海微世半导体有限公司申请的专利一种晶粒自动清洗设备获国家实用新型专利权，本实用新型专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN223717860U 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-12-26发布的实用新型授权公告中获悉：该实用新型的专利申请号/专利号为：202423174293.3，技术领域涉及：B08B3/12；该实用新型一种晶粒自动清洗设备是由丁波;王超;陈瀚;侯金松;杭海燕;谷卫东;智朋;张伟设计研发完成，并于2024-12-23向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种晶粒自动清洗设备在说明书摘要公布了：一种晶粒自动清洗设备，包括清洗容器、超声波振荡器、清洗托板、供液装置以及回液装置，所述清洗容器设于所述超声波振荡器上，所述清洗容器的壁体上具有进液孔和出液孔，所述进液孔和出液孔均与所述清洗容器的内底面齐平，所述清洗托板与所述内底面平行且高于所述进液孔和出液孔，所述清洗托板与所述清洗容器的壁体的内表面固定，其上具有均匀布置、上下方向的多个通孔，所述通孔的孔径小于待清洗晶粒的粒径，所述供液装置和回液装置分别与所述进液孔和出液孔连接，所述供液装置与进液孔的连接处具有第一阀门，所述回液装置与出液孔的连接处具有第二阀门。本实用新型清洗效果好，便捷高效，降低了人力成本。
本实用新型一种晶粒自动清洗设备在权利要求书中公布了：1.一种晶粒自动清洗设备，包括清洗容器和超声波振荡器，所述清洗容器设于所述超声波振荡器上，其特征在于，还包括清洗托板、用于向所述清洗容器输送清洗溶液的供液装置以及用于从所述清洗容器回收清洗溶液的回液装置，所述清洗容器的壁体上具有进液孔和出液孔，所述进液孔和出液孔均与所述清洗容器的内底面齐平，所述清洗托板与所述内底面平行且高于所述进液孔和出液孔，所述清洗托板与所述清洗容器的壁体的内表面固定，其上具有均匀布置、上下方向的多个通孔，所述通孔的尺寸小于待清洗晶粒的尺寸，所述供液装置和回液装置分别与所述进液孔和出液孔连接，所述供液装置与进液孔的连接处具有第一阀门，所述回液装置与出液孔的连接处具有第二阀门。
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