三星电子株式会社拉德瓦努尔·哈桑·斯迪克获国家专利权
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龙图腾网获悉三星电子株式会社申请的专利色散阵列及其制造方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN113138021B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-12-30发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202110012749.8，技术领域涉及：G01J3/02；该发明授权色散阵列及其制造方法是由拉德瓦努尔·哈桑·斯迪克;丹尼尔·阿桑姆普考设计研发完成，并于2021-01-06向国家知识产权局提交的专利申请。
本色散阵列及其制造方法在说明书摘要公布了：提供了一种色散阵列及其制造方法。光学光谱仪可以用来确定电磁波的光谱分量。光谱仪可以是大型、体积庞大的装置，并且为了记录测量值，可能需要波以几乎直角的入射进入。公开了一种采用光色散技术的具有纳米光子组件超紧凑型光谱仪。纳米光子组件可以包含超表面和布拉格滤波器。每个超表面可以包含可以被随机化以产生大输入角的光散射纳米结构，布拉格滤波器可以导致与输入角度无关的光色散。光谱仪可以能够处理约200nm的带宽。超紧凑型光谱仪可以能够读取可见光400nm至600nm内的图像数据，并且能够读取近红外700nm至900nm波长范围内的光谱数据。光谱仪的表面积可以为约1mm2，从而使其适合移动装置。
本发明授权色散阵列及其制造方法在权利要求书中公布了：1.一种色散阵列，所述色散阵列包括： 多个色散结构，所述多个色散结构中的每个以目标波长的0°色散开始使目标波长范围的光色散， 其中，所述多个色散结构中的每个包括： 纳米结构层，包括彼此平行的多个纳米结构行；以及 滤波器层，位于纳米结构层的一侧上并且包括缺陷层， 其中，所述多个色散结构中的每个中包括的所述多个纳米结构行与所述多个色散结构中的另一个中包括的所述多个纳米结构行形成角度，并且 其中，所述多个色散结构的滤波器层的缺陷层具有彼此不同的厚度。
如需购买、转让、实施、许可或投资类似专利技术，可联系本专利的申请人或专利权人三星电子株式会社，其通讯地址为：韩国京畿道水原市；或者联系龙图腾网官方客服，联系龙图腾网可拨打电话0551-65771310或微信搜索“龙图腾网”。
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