株式会社LG化学金旼俊获国家专利权
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龙图腾网获悉株式会社LG化学申请的专利光调制装置获国家发明授权专利权,本发明授权专利权由国家知识产权局授予,授权公告号为:CN114341678B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-12-30发布的发明授权授权公告中获悉:该发明授权的专利申请号/专利号为:202080060117.2,技术领域涉及:G02B5/30;该发明授权光调制装置是由金旼俊;谢尔盖·别利亚耶夫;柳正善;宋哲沃;吴东炫;尹哲民;金真弘;金正云设计研发完成,并于2020-10-22向国家知识产权局提交的专利申请。
本光调制装置在说明书摘要公布了:本申请涉及光调制装置。本申请可以提供这样的光调制装置:其通过补偿膜的特性控制和适当排列而具有包括透射率可变特性的优异光学特性,并且通过控制黑色模式下的倾斜角光泄露而适用于各种用途。
本发明授权光调制装置在权利要求书中公布了:1.一种光调制装置,包括:第一聚合物膜基底,具有形成在所述第一聚合物膜基底的第一表面上的粘合剂层或压敏粘合剂层;第二聚合物膜基底,具有形成在所述第二聚合物膜基底的第一表面上的液晶配向膜;包含液晶化合物的光调制层;附接至所述第一聚合物膜基底的第二表面的第一偏光层以及附接至所述第二聚合物膜基底的第二表面的第二偏光层,其中 其中所述第一偏光层和所述第二偏光层的吸收轴彼此垂直, 所述第一聚合物膜基底和所述第二聚合物膜基底被设置成使得它们的第一表面彼此面对, 所述光调制层存在于相对设置的第一聚合物膜基底与第二聚合物膜基底之间,以及 在所述光调制层与所述第一聚合物膜基底之间或者在所述光调制层与所述第二聚合物膜基底之间的至少一个位置中包括-C板, 其中所述粘合剂层或压敏粘合剂层具有对液晶分子的垂直取向力,并且未在所述第一聚合物膜基底上形成液晶配向膜, 其中所述-C板存在于所述压敏粘合剂层或粘合剂层与所述第一聚合物膜基底之间或者在所述液晶配向膜与所述第二聚合物膜基底之间, 其中所述-C板意指满足nx=nynz或nxnynz的折射率关系的层,其中nx为层在慢轴方向上的折射率,ny为在快轴方向上的折射率,以及nz为由所述慢轴和所述快轴形成的平面的法线方向上的折射率, 其中所述第一聚合物膜基底和所述第二聚合物膜基底中的每一者对于550nm的波长的平面相位差为500nm或更大, 其中所述液晶配向膜为垂直配向膜,以及所述液晶化合物的取向由所述垂直配向膜和具有垂直取向能力的粘合剂或压敏粘合剂形成, 其中所述第一聚合物膜基底与所述第二聚合物膜基底之间的间隔通过分隔物形状的间隔件来保持, 其中所述第一聚合物膜基底和所述第二聚合物膜基底的慢轴彼此水平,以及所述第一聚合物膜基底和所述第二聚合物膜基底的慢轴与所述第一偏光层和所述第二偏光层的吸收轴垂直或水平, 其中所述-C板具有满足以下条件1的厚度方向相位差的绝对值C,并且所述-C板的所述厚度方向相位差为负值: [条件1] C≤D×1.2 其中,D为通过垂直取向状态下的所述光调制层的厚度方向相位差×包含在所述光调制层中的所述液晶化合物的平均折射率所述-C板的平均折射率确定的值。
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